[發明專利]反光薄膜

有效

• 申請號: 201110422853.0
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN102529261A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 刁銳敏
• 申請（專利權）人: 綿陽龍華薄膜有限公司
• 主分類號: B32B27/08
• 分類號: B32B27/08;B32B27/18;C08L69/00;C08L33/12;C08K5/132;C08K5/526
• 代理公司: 四川省成都市天策商標專利事務所 51213
• 代理人: 劉興亮

1.一種反光薄膜，包括高分子材料本體(110)，其特征在于：所述的反光薄膜還包括涂層結構(140)，所述的涂層結構(140)涂敷在高分子材料本體(110)的一個面上。

2.根據權利要求1所述的反光薄膜，其特征在于：所述反光薄膜的高分子材料本體(110)與涂層結構(140)之間還設有復合薄膜層一(130)。

3.根據權利要求2所述的反光薄膜，其特征在于：所述高分子材料本體(110)在與設置有復合薄膜層一(130)的面相對的面上還設有復合薄膜層二(120)。

4.根據權利要求3所述的反光薄膜，其特征在于：所述的復合薄膜層二(120)上還涂敷有涂層結構(140)。

5.根據權利要求1-4中任一所述的反光薄膜，其特征在于：所述的涂層結構(140)為聚甲基丙烯酸甲酯涂敷層，所述涂層結構(140)的厚度為5微米至500微米。

6.根據權利要求1-4中任一所述的反光薄膜，其特征在于：所述高分子材料本體(110)由以下成分構成：質量比為89％至94％的工程塑料，質量比為0.05％至4％的抗紫外吸收劑，質量比為0.05％至1％的抗氧劑，質量比為1％至6％的抗靜電劑。

7.根據權利要求6所述的反光薄膜，其特征在于：所述的工程塑料為聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一種，所述的抗紫外吸收劑為2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-(2-羥基-3.5-二枯基苯基)苯并三氮唑、2-(2-羥基-5-特辛基苯基)苯并三氮唑中的至少一種，所述的抗氧劑為雙(2.4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、2.2-草酰胺基-雙[乙基-3-(3.5-二叔丁基-4-羥基苯基)]丙酸酯、季戊四醇四(3-月桂基硫代丙酸酯)中的至少一種，所述的抗靜電劑為烷基苯磺酸-烷基磷鹽。

8.根據權利要求2-4中任一所述的反光薄膜，其特征在于：所述復合薄膜層一(130)和復合薄膜層二(120)由以下成分構成：質量比為90％至95％的工程塑料，質量比為0.05％至3％的抗紫外吸收劑，質量比為0.05％至1％的抗氧劑，質量比為1％至6％的抗靜電劑。

9.根據權利要求8所述的反光薄膜，其特征在于：所述的工程塑料為聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一種，所述的抗紫外吸收劑為2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-(2-羥基-3.5-二枯基苯基)苯并三氮唑、2-(2-羥基-5-特辛基苯基)苯并三氮唑中的至少一種，所述的抗氧劑為雙(2.4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、2.2-草酰胺基-雙[乙基-3-(3.5-二叔丁基-4-羥基苯基)]丙酸酯、季戊四醇四(3-月桂基硫代丙酸酯)中的至少一種，所述的抗靜電劑為烷基苯磺酸-烷基磷鹽。

10.根據權利要求1-4中任一所述的反光薄膜，其特征在于：所述高分子材料本體(110)、復合薄膜層一(130)和復合薄膜層二(120)的折射率為1.35至1.9。