[發明專利]一種合成曝光法制作中階梯光柵的方法

有效

• 申請號: 201110422296.2
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN102495443A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: 凌進中;張大偉;黃元申;王琦;李柏承;莊松林
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/20
• 代理公司: 上海伯瑞杰知識產權代理有限公司 31227
• 代理人: 吳澤群

1.一種合成曝光法制作中階梯光柵的方法，其特征在于，它包括以下幾個步驟：

(1)根據所需制備的中階梯光柵槽形特征參數要求，寫成槽形周期函數形式，并寫出其傅里葉級數，即無限項正弦函數之和，根據實際槽形的精度要求，確定近似項的項數，其中一項為常數項，與其它項合并為正弦函數項，再將中階梯光柵槽形近似為正弦干涉條紋的疊加；

(2)根據步驟(1)中干涉條紋的周期計算出光的入射光與反射光的角度；

(3)根據步驟(1)中干涉條紋的振幅以及光刻膠的感光特性計算干涉條紋的曝光強度，即曝光光強和曝光時間的乘積，對于不同特性的光刻膠使用不同的曝光強度；

(4)根據步驟(1)干涉條紋的位相關系計算光路中所使用的反射鏡的膜厚，精確控制干涉條紋的位相關系，以滿足精確的槽形合成；

(5)將涂有光刻膠的光柵基底放在干涉條紋接收區域，光路中的光依次曝光后，顯影處理，再在具有中階梯光柵槽形的光柵基底上鍍金屬反射膜，完成中階梯光柵的制備。

2.如權利要求1所述的一種合成曝光法制作中階梯光柵的方法，其特征在于：所述步驟(1)將中階梯槽形函數通過傅里葉級數展開的方法分解成無數個不同周期、不同振幅、不同位相的正弦函數的疊加，將其合成近似成中階梯光柵槽形，即包括基波和諧波項。

3.如權利要求1所述的一種合成曝光法制作中階梯光柵的方法，其特征在于：所述步驟(2)(3)(4)中對干涉條紋周期、振幅、位相的控制，具體方式為：

1)通過控制每束光的光強或者曝光時間來控制各個干涉條紋的振幅；

2)通過精確控制每束光的入射光與反射光的夾角來控制干涉條紋的周期；

3)通過精確控制反射鏡不同區域膜層厚度來控制各個干涉條紋之間的位相關系。

4.如權利1所述的一種合成曝光法制作中階梯光柵的方法，其特征在于：所述步驟(5)使用的光依次曝光，最后一次曝光后進行顯影。

5.如權利4所述的一種合成曝光法制作中階梯光柵的方法，其特征在于：所述顯影完成后再鍍金屬反射膜。