[發(fā)明專利]著色組合物、濾色器和顯示元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110420850.3 | 申請日: | 2011-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN102566269A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 小松裕之;上原寬志;宮下由佳 | 申請(專利權(quán))人: | JSR株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/033;G02B5/20;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 左嘉勛;顧晉偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 著色 組合 濾色器 顯示 元件 | ||
1.一種著色組合物,其特征在于,含有(A)著色劑、(B)粘合劑樹脂、(C)交聯(lián)劑和(D)從下述(d-1)~(d-8)中選擇的至少一種化合物,
(d-1)具有從-OR1基和-SR2基中選擇的至少一種的脂肪族羧酸或其鹽,
(d-2)具有從-OR1基、-SR2基和-Q-NR3R4基中選擇的至少一種的脂肪族磺酸或其鹽,
(d-3)具有從-OR1基和-SR2基中選擇的至少一種的脂環(huán)式羧酸或其鹽,
(d-4)具有從-OR1基、-SR2基和-Q-NR3R4基中選擇的至少一種的脂環(huán)式磺酸或其鹽,
(d-5)被具有-SR2基的基團和具有羧基的基團取代的芳香族烴或其鹽,
(d-6)被從具有-OR1基的基團、具有-SR2基的基團和具有-Q-NR3R4基的基團中選擇的至少一種和具有磺基的基團取代的芳香族烴或其鹽,
(d-7)具有羧基和雜環(huán)基、且不計算氫原子和羧基的總原子數(shù)為3~20的化合物或其鹽,
(d-8)具有磺基和雜環(huán)基、且不計算氫原子和磺基的總原子數(shù)為3~20的化合物或其鹽,
其中,R1~R4相互獨立地表示氫原子、或者取代或非取代的1價烴基,Q表示單鍵或羰基。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的著色組合物,其中,含有配位化合物作為所述(A)著色劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的著色組合物,其中,構(gòu)成所述配位化合物的中心原子為Cu、Zn、Ni、Cr、Al、Co、Mg、In、Fe或B。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的著色組合物,其中,所述配位化合物為金屬酞菁。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中的任一項所述的著色組合物,其中,進一步含有(E)胺值為5mgKOH/g以上的分散劑。
6.一種濾色器,其特征在于,具備利用權(quán)利要求1~4中的任一項所述的著色組合物形成的著色層。
7.一種顯示元件,其特征在于,具備權(quán)利要求6所述的濾色器。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
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