[發(fā)明專利]同步型柵格的箔影去除方法以及放射線攝影裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110420448.5 | 申請日: | 2011-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN102525512A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藤田明德 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 同步 柵格 去除 方法 以及 放射線 攝影 裝置 | ||
1.一種柵格箔影去除方法,其為具備同步型柵格的用于拍攝透視圖像的放射線攝影裝置的柵格箔影去除方法,該同步型柵格以使柵格箔影映到檢測放射線的像素的中央的方式按固定間隔配置有柵格箔,該柵格箔影去除方法包括以下步驟:
提取步驟,包括分組步驟、最受影響像素選擇步驟、投票步驟以及挑選步驟,其中,在上述分組步驟中,將構(gòu)成透視圖像的像素群中的行方向上的各行內(nèi)的像素群分成以規(guī)定個數(shù)的像素構(gòu)成的組,在上述最受影響像素選擇步驟中,在各組內(nèi)選擇受上述柵格箔影的影響最大的像素來作為最受影響像素,在上述投票步驟中,以各組內(nèi)的上述最受影響像素為基準(zhǔn),對在行方向上的前后側(cè)與該最受影響像素分離的其它像素投規(guī)定數(shù)量的票,在上述挑選步驟中,在各組內(nèi)挑選出得票數(shù)最多的像素來作為未受到上述柵格箔影的影響的不受影響像素;
近似透視圖像計(jì)算步驟,根據(jù)上述不受影響像素的檢測信號值來進(jìn)行插值處理,從而計(jì)算近似透視圖像;
柵格箔影圖像計(jì)算步驟,根據(jù)上述透視圖像與上述近似透視圖像的差,來計(jì)算柵格箔影圖像;
箔影標(biāo)準(zhǔn)圖像計(jì)算步驟,使上述柵格箔影圖像在上述柵格箔影的長度方向上平均化,來計(jì)算箔影標(biāo)準(zhǔn)圖像;以及
箔影去除步驟,根據(jù)上述透視圖像與上述箔影標(biāo)準(zhǔn)圖像的差從上述透視圖像中去除上述柵格箔影,來求出箔影去除圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柵格箔影去除方法,其特征在于,
在將構(gòu)成上述組的規(guī)定個數(shù)的像素設(shè)為四個像素并將上述規(guī)定數(shù)量的票設(shè)為一票的情況下,
在上述投票步驟中,以各組內(nèi)的上述最受影響像素為基準(zhǔn),對行方向上的向前數(shù)第二個像素和向后數(shù)第二個像素各投一票,
在上述挑選步驟中,將得票數(shù)為2的像素設(shè)為不受影響像素,并且在上述投票步驟與上述挑選步驟之間還具備調(diào)整步驟,該調(diào)整步驟包括:
第一調(diào)整步驟,針對得票數(shù)為1的像素,在行方向上的向前數(shù)和向后數(shù)第四個像素中的任一方的得票數(shù)為2的情況下,將該得票數(shù)為1的像素的得票數(shù)設(shè)為2;
第二調(diào)整步驟,針對得票數(shù)為1的像素,在行方向上的一個相鄰的像素的得票數(shù)為2的情況下,將該得票數(shù)為1的像素的得票數(shù)從1設(shè)為0;
第三調(diào)整步驟,針對得票數(shù)為1的鄰接的兩個像素比較檢測信號值,將檢測信號值大的一方的像素的得票數(shù)從1設(shè)為2,將檢測信號值小的一方的像素的得票數(shù)設(shè)為0;以及
第四調(diào)整步驟,針對得票數(shù)為1的像素,在行方向上的向前數(shù)和向后數(shù)第二個像素中的任一方的得票數(shù)為2的情況下,將該得票數(shù)為1的像素的得票數(shù)從1設(shè)為0。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的柵格箔影去除方法,其特征在于,
上述調(diào)整步驟還包括第五調(diào)整步驟,在該第五調(diào)整步驟中,在即使實(shí)施了上述第四調(diào)整步驟也存在得票數(shù)為1的像素的情況下,將該得票數(shù)為1的像素的得票數(shù)設(shè)為2。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的柵格箔影去除方法,其特征在于,
還包括強(qiáng)制變更步驟,在該強(qiáng)制變更步驟中,在上述提取步驟之后在規(guī)定范圍內(nèi)隔四個像素存在一個不受影響像素且隔兩個像素存在一個不受影響像素的情況下,強(qiáng)制地變更不受影響像素使得不受影響像素之間相隔三個像素。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的柵格箔影去除方法,其特征在于,
在上述最受影響像素選擇步驟中,選擇檢測信號值最小的像素來作為上述最受影響像素。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的柵格箔影去除方法,其特征在于,
在上述最受影響像素選擇步驟中,選擇檢測信號值最小的像素來作為上述最受影響像素。
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