[發(fā)明專利]一種引緯流場形成系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110420062.4
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN102493103A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發(fā)明（設計）人: 周平;祝章琛
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇萬工科技集團有限公司
• 主分類號: D03D47/30
• 分類號: D03D47/30
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 曹毅

1.一種引緯流場形成系統(tǒng)，包括若干個沿異形鋼筘（11）的筘槽布置的輔助噴嘴（1），所述的若干個輔助噴嘴（1）分別連接至一個第一電磁閥（3），所述的第一電磁閥（3）一端連接至控制板，另一端連接至第一輔氣包（5），所述第一輔氣包（5）連接第一調(diào)節(jié)閥（7），所述第一調(diào)節(jié)閥（7）連接氣源（9），其特征在于：還包括若干個沿異形鋼筘（11）的筘槽布置的輔助二噴嘴（2），所述的若干個輔助二噴嘴（2）分別連接至一個第二電磁閥（4），所述的第二電磁閥（4）一端連接至所述控制板，另一端連接至第二輔氣包（6），所述第二輔氣包（6）連接第二調(diào)節(jié)閥（8），所述第二調(diào)節(jié)閥（8）連接所述氣源（9）。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的引緯流場形成系統(tǒng)，其特征在于：所述的若干個輔助二噴嘴（2）與所述的若干個輔助噴嘴（1）數(shù)量相等，并依次間隔的設置在所述的若干個輔助噴嘴（1）后方。

3.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的引緯流場供氣系統(tǒng)，其特征在于：所述輔助噴嘴（1）與其后方的輔助二噴嘴（2）的間隔距離為11-14mm。

4.?根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的引緯流場形成系統(tǒng)，其特征在于：所述的若干個輔助二噴嘴（2）一端固定在一多孔連接板（10）上，所述多孔連接板（10）固定在所述異形鋼筘（11）上；所述多孔連接板（10）的一側(cè)面板上設置有若干個柱形凸臺（1001），所述的若干個柱形凸臺（1001）兩兩構(gòu)成一組，并該組中的其中一個柱形凸臺（1001）內(nèi)設置由一連接通孔（1002），所述連接通孔（1002）聯(lián)通位于所述多孔連接板（10）內(nèi)的腔體（1003），所述腔體（1003）通過一設置在所述多孔連接板（10）的低氣壓進氣孔（1004）連接所述第二電磁閥（4）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的引緯流場形成系統(tǒng)，其特征在于：所述輔助二噴嘴（2）包括一內(nèi)置有空腔（202）的L形噴嘴本體，所述L形噴嘴本體一端設置有兩個柱形凹槽（203），并其中一個柱形凹槽（203）聯(lián)通所述空腔（202），另一端設置有一噴氣孔（201），所述噴氣孔（201）聯(lián)通所述空腔（202）；所述多孔連接板（10）通過所述的柱形凸臺（1001）設置在所述的柱形凹槽（203）內(nèi)固定所述輔助二噴嘴（2），并且，所述的設有連接通孔（1002）的柱形凸臺（1001）與所述的聯(lián)通所述空腔（202）的柱形凹槽（203）相配合。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的引緯流場形成系統(tǒng)，其特征在于：所述噴氣孔（201）的孔直徑為1.5-1.8mm，所述輔助二噴嘴（2）的厚度為1.8-2.2mm。

7.?根據(jù)權(quán)利要求5所述的引緯流場形成系統(tǒng)，其特征在于：所述柱形凹槽（203）的孔直徑為5.5mm。

8.?根據(jù)權(quán)利要求5所述的引緯流場形成系統(tǒng)，其特征在于：供應輔助二噴嘴2的低壓氣流早于供應輔助噴嘴1的高壓氣流的噴射4°-6°；并低壓氣流供氣持續(xù)時間為30°-60°。