[發明專利]一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法無效
| 申請號: | 201110418857.1 | 申請日: | 2011-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN102544198A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 孫良欣;張賞;郭育林 | 申請(專利權)人: | 青島吉陽新能源有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京市商泰律師事務所 11255 | 代理人: | 毛燕生 |
| 地址: | 266000 山東省青島市即墨市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 選擇性 發射 結晶體 太陽能電池 制備 方法 | ||
1.一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:單步高濃度摻雜擴散,然后采用印刷工藝在電極區域印刷抗腐蝕漿料,非電極區域經過化學腐蝕實現輕摻雜的發射結,再除去抗腐蝕阻擋層,最后采用常規太陽能制備方法制得選擇性發射結晶體硅太陽能電池。
2.根據權利要求1所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池制備方法,其特征是含有以下步驟:
(1)高濃度摻雜擴散:以POCl3為液態源,采用單步擴散法對硅片進行P重擴散,制備PN結;
(2)掩膜漿料印刷:在P中擴散面電極區域印刷抗腐蝕掩膜漿料,阻擋化學腐蝕液對電極接觸區域的腐蝕;
(3)選擇性發射結的腐蝕:利用化學腐蝕液對非印刷區域進行腐蝕,實現受光的區域輕摻雜;
(4)抗腐蝕掩膜漿料的清洗:采用堿溶液溶解抗腐蝕掩膜漿料,同時去除腐蝕過程中產生的多孔硅;
(5)選擇性發射結太陽能電池的制備:在完成上述步驟的基礎上,采用常規太陽能工藝制備選擇性發射結太陽能電池。
3.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(1)中的發射結方塊電阻為45-50Ω。
4.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(2)中的抗腐蝕漿料為一種油墨,印刷后可直接進行化學腐蝕。
5.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(3)中的化學腐蝕液為亞硝酸鈉與氫氟酸的混合溶液,相比于其他硝酸與氫氟酸的混合液,腐蝕速率及腐蝕方阻的均與性更易于控制;
NaNO2∶HF∶H2O=1~2∶2~5∶30,腐蝕后方塊電阻為90~120Ω。
6.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(4)中堿溶液加入了乙二醇乙醚,增強了對掩膜漿料的溶解效果,同時抑制了堿溶液對硅片PN結的腐蝕;
氫氧化鉀濃度為1~5%,乙二醇乙醚濃度為5~10%。
7.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(5)的常規工藝包括:去PSG,PECVD?SiNx,印刷背電極、背電場、正電極,燒結,電性能測試。
8.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(3)的化學腐蝕液為氫氟酸和亞硝酸鹽混合液,重量比例為1∶1至10∶1。
9.根據權利要求2所述的一種選擇性發射結晶體硅太陽能電池的制備方法,其特征是:步驟(4)的堿溶液溶為氫氧化鉀、氫氧化鈉或氨水。
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H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





