[發(fā)明專利]一種源氣隔離的固態(tài)源原子層沉積裝置和方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110418621.8
• 申請(qǐng)日: 2011-12-14
• 公開（公告）號(hào): CN102418084A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梅永豐;左雪芹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無錫邁納德微納技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44;C23C16/455
• 代理公司: 北京中恒高博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11249
• 代理人: 劉洪京

1.一種源氣隔離的固態(tài)源原子層沉積裝置，其特征在于：?前驅(qū)體源料提供系統(tǒng)，包括多個(gè)并聯(lián)的前驅(qū)體源料支路，前驅(qū)體源料支路包括管路和前驅(qū)體源料容器，前驅(qū)體源料容器分為上下兩部分，下部為存放固態(tài)前驅(qū)體源料的固態(tài)源容器，上部為氣態(tài)前軀體存儲(chǔ)的氣態(tài)源容器，其中間設(shè)置有控制兩者聯(lián)通與斷開的閥門，氣態(tài)源容器兩端設(shè)有脈沖執(zhí)行器，固態(tài)源容器上設(shè)置有加熱裝置，各前驅(qū)體源料支路上設(shè)置有脈沖執(zhí)行器，在一端匯集成前驅(qū)體源料總路后與吹掃氣輸送系統(tǒng)連接至反應(yīng)腔體系統(tǒng)，反應(yīng)腔體系統(tǒng)通過真空控制閥連接至真空泵，前驅(qū)體源料支路另一端連接至載氣系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種源氣隔離的固態(tài)源原子層沉積裝置，其特征在于：前驅(qū)體源料支路與載氣系統(tǒng)之間設(shè)置有脈沖執(zhí)行器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種源氣隔離的固態(tài)源原子層沉積裝置，其特征在于：固態(tài)源容器內(nèi)部表面鏡面拋光并鍍有防護(hù)層。

4.一種源氣隔離的固態(tài)源原子層沉積方法，其特征在于：利用真空泵將反應(yīng)腔體系統(tǒng)置于真空狀態(tài)，通過載氣系統(tǒng)將前驅(qū)體源料輸送至反應(yīng)腔體系統(tǒng)后進(jìn)行沉積，前驅(qū)體源料容器包括固態(tài)源容器和氣態(tài)源容器，通過加熱使得前驅(qū)體源料由固態(tài)升華至氣態(tài)后，由載氣輸送至反應(yīng)腔體系統(tǒng)后沉積。