[發明專利]一種源氣隔離的固態源原子層沉積裝置和方法

無效

• 申請號: 201110418621.8
• 申請日: 2011-12-14
• 公開（公告）號: CN102418084A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 梅永豐;左雪芹
• 申請（專利權）人: 無錫邁納德微納技術有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/455
• 代理公司: 北京中恒高博知識產權代理有限公司 11249
• 代理人: 劉洪京

1.一種源氣隔離的固態源原子層沉積裝置，其特征在于：?前驅體源料提供系統，包括多個并聯的前驅體源料支路，前驅體源料支路包括管路和前驅體源料容器，前驅體源料容器分為上下兩部分，下部為存放固態前驅體源料的固態源容器，上部為氣態前軀體存儲的氣態源容器，其中間設置有控制兩者聯通與斷開的閥門，氣態源容器兩端設有脈沖執行器，固態源容器上設置有加熱裝置，各前驅體源料支路上設置有脈沖執行器，在一端匯集成前驅體源料總路后與吹掃氣輸送系統連接至反應腔體系統，反應腔體系統通過真空控制閥連接至真空泵，前驅體源料支路另一端連接至載氣系統。

2.根據權利要求1所述一種源氣隔離的固態源原子層沉積裝置，其特征在于：前驅體源料支路與載氣系統之間設置有脈沖執行器。

3.根據權利要求1所述一種源氣隔離的固態源原子層沉積裝置，其特征在于：固態源容器內部表面鏡面拋光并鍍有防護層。

4.一種源氣隔離的固態源原子層沉積方法，其特征在于：利用真空泵將反應腔體系統置于真空狀態，通過載氣系統將前驅體源料輸送至反應腔體系統后進行沉積，前驅體源料容器包括固態源容器和氣態源容器，通過加熱使得前驅體源料由固態升華至氣態后，由載氣輸送至反應腔體系統后沉積。