[發明專利]曝光裝置及曝光方法無效
| 申請號： | 201110418418.0 | 申請日： | 2011-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN102436150A | 公開（公告）日： | 2012-05-02 |
| 發明（設計）人： | 許哲豪;施明宏;薛景峰 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 歐陽啟明 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 裝置 方法 | ||
1.一種曝光裝置，用于對一透光基板上的光阻層進行曝光，其特征在于：所述曝光裝置包括：
光掩模，設置于所述光阻層的一側；
曝光光源，用于提供光線至所述光阻層，其中所述曝光光源所提供的光線是穿過所述光掩模來到達所述光阻層；以及
反射板，設置于所述光阻層的相對一側，用于將穿過所述光阻層及所述透光基板的光線反射回所述光阻層。
2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述光掩模包括透光開口，所述透光開口小于3um。
3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于：所述透光開口等于或小于2um。
4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述反射板的反射表面為平坦表面。
5.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述反射板具有多個凸面結構。
6.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述反射板具有多個凹面結構。
7.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：當進行曝光時，所述反射板是平行于所述透光基板上的所述光阻層。
8.一種曝光方法，用于對一透光基板上的光阻層進行曝光，其特征在于：所述曝光方法包括如下步驟：
利用曝光光源來提供光線至所述光阻層，其中所述曝光光源所提供的光線是穿過光掩模來到達所述光阻層；以及
利用反射板來將穿過所述光阻層及所述透光基板的光線反射回所述光阻層。
9.根據權利要求8所述的曝光方法，其特征在于：所述光掩模包括透光開口，所述透光開口小于3um。
10.根據權利要求8所述的曝光方法，其特征在于：當利用所述反射板來反射光線時，所述透光基板是承載于所述反射板上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市華星光電技術有限公司，未經深圳市華星光電技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110418418.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種發電機負載連續可變系統
- 下一篇：用于地球物理探測的地震信號采集傳輸裝置
