[發明專利]遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置無效
| 申請號: | 201110415942.2 | 申請日: | 2011-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN102400113A | 公開(公告)日: | 2012-04-04 |
| 發明(設計)人: | 萬軍;饒志鵬;黃成強;陳波;李超波;夏洋;江瑩冰;趙珂杰 | 申請(專利權)人: | 嘉興科民電子設備技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/52 | 分類號: | C23C16/52;C23C16/505 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100 | 代理人: | 趙芳;徐關壽 |
| 地址: | 314006 浙江省嘉興市南*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 遠程 脈沖 射頻 電感 耦合 放電 等離子體 增強 原子 沉積 裝置 | ||
1.?遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置,包括真空系統、遠程脈沖等離子體發生系統、前驅體源輸運系統、加熱系統和計算機控制系統,其特征在于:所述真空系統包括真空反應腔室,所述真空反應腔室上分別連接有進氣管路和真空泵,所述真空反應腔室內設有放置樣品的樣品臺;
所述遠程脈沖等離子體發生系統包括連接在真空反應腔室上的石英管,所述石英管外繞設有感應線圈,所述感應線圈上依次連接阻抗匹配系統、脈沖射頻電源;
所述前驅體源輸運系統包括連接在進氣管路上的前驅體源瓶,所述前驅體源瓶與進氣管路的連接管路上設有快速ALD電磁閥和手動隔膜閥;
所述加熱系統設置在樣品臺、進氣管路、泵線管路上;
所述計算機控制系統由PLC與計算機組成,所述PLC與加熱系統、快速ALD電磁閥、脈沖射頻電源連接。
2.?根據權利要求1所述的遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置,其特征在于:所述遠程脈沖等離子體發生系統的脈沖等離子體的引入是在第一種前驅體在樣品表面飽和吸附和真空反應腔室內凈化完畢后,所述計算機控制系統根據第一前驅體凈化時間的完成與否來判斷是否需要產生等離子體及等離子體在單次循環中的工作時間。
3.?根據權利要求1或2所述的遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置,其特征在于:所述進氣管路上設有控制充入氣體流量的質量流量計和吹掃氣動閥,所述質量流量計和吹掃氣動閥與PLC連接。
4.?根據權利要求3所述的遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置,其特征在于:所述真空泵通過泵線管路與真空反應腔室連接,所述泵線管路上設有泵線氣動閥和監測壓力的真空計,所述泵線氣動閥和真空計與PLC連接。
5.?根據權利要求4所述的遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置,其特征在于:所述加熱系統由加熱元件、固態繼電器和熱電偶組成。
6.?根據權利要求5所述的遠程脈沖射頻電感耦合放電等離子體增強原子層沉積裝置,其特征在于:所述樣品臺下表面與真空反應腔室抽氣口相距20~50mm,與真空反應腔室內上表面相距40~80mm,與真空反應腔室內壁相距20~40mm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





