[發(fā)明專利]具有衍射光學(xué)元件的光學(xué)拾取設(shè)備和光學(xué)記錄/再現(xiàn)設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110415148.8 | 申請日： | 2011-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN102568500A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 樸城秀;安西穰児;尹涌漢;金鐘旭;森下一郎 | 申請（專利權(quán)）人： | 三星電子株式會社 |
| 主分類號： | G11B7/09 | 分類號： | G11B7/09;G11B7/1353 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人： | 韓明星;劉奕晴 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 衍射 光學(xué) 元件 拾取 設(shè)備 記錄 再現(xiàn) | ||
1.一種光學(xué)拾取設(shè)備，所述光學(xué)拾取設(shè)備用于再現(xiàn)記錄在光學(xué)記錄介質(zhì)上的信息或者將信息記錄在光學(xué)記錄介質(zhì)上，所述光學(xué)拾取設(shè)備包括：
光源單元，產(chǎn)生光束；
衍射元件，使從光源單元產(chǎn)生的光束衍射；
物鏡，將通過衍射元件衍射的多個衍射光束中的用于記錄和再現(xiàn)信息的p階衍射光束聚焦在形成在光學(xué)記錄介質(zhì)上的多個信息記錄層中的任意一層上，
其中，不用于記錄和再現(xiàn)信息的p±1階衍射光束聚焦在遠(yuǎn)離所述多個信息記錄層和光學(xué)記錄介質(zhì)的表面的點(diǎn)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，p-1階衍射光束的焦點(diǎn)fp-1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp-1-fp以及p+1階衍射光束的焦點(diǎn)fp+1與p階衍射光束的焦點(diǎn)(fp)之間的差fp+1-fp滿足下面的條件式：
-Dmax-WD≤fp-1-fp≤-Dmax-s×t
2×Dmax-Dmin+s×t≤fp+1-fp≤600μm
其中，Dmax表示從光學(xué)記錄介質(zhì)的表面到光學(xué)記錄介質(zhì)的最深的信息記錄層的距離，Dmin表示從光學(xué)記錄介質(zhì)的表面到光學(xué)記錄介質(zhì)的最淺的信息記錄層的距離，WD表示物鏡的工作距離，t表示光學(xué)記錄介質(zhì)的制造公差的絕對值，s表示安全系數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，物鏡的工作距離WD是300μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，光學(xué)記錄介質(zhì)的制造公差的絕對值t是5μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，安全系數(shù)s至少是2。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，光學(xué)記錄介質(zhì)包括雙層式藍(lán)光盤，
p-1階衍射光束的焦點(diǎn)fp-1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp-1-fp以及p+1階衍射光束的焦點(diǎn)fp+1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp+1-fp滿足下面的條件式：
-400μm≤fp-1-fp≤-110μm
135μm≤fp+1-fp≤600μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，光學(xué)記錄介質(zhì)包括雙層式藍(lán)光盤，
p-1階衍射光束的焦點(diǎn)fp-1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp-1-fp以及p+1階衍射光束的焦點(diǎn)fp+1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp+1-fp滿足下面的條件式：
-60μm≤fp-1-fp≤-40μm
65μm≤fp+1-fp≤85μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，光學(xué)記錄介質(zhì)包括三層式藍(lán)光盤，
p-1階衍射光束的焦點(diǎn)fp-1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp-1-fp以及p+1階衍射光束的焦點(diǎn)fp+1與p階衍射光束的焦點(diǎn)fp之間的差fp+1-fp滿足下面的條件式：
-400μm≤fp-1-fp≤-110μm
153μm≤fp+1-fp≤600μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取設(shè)備，其中，衍射元件形成在物鏡的一側(cè)上。
10.一種光學(xué)記錄和再現(xiàn)設(shè)備，包括權(quán)利要求1的光學(xué)拾取設(shè)備。
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