[發(fā)明專(zhuān)利]曝光方法及其裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110413542.8
• 申請(qǐng)日: 2011-12-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102591157A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石田進(jìn);手塚秀和;土井秀明;齋藤佳大;根本亮二
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立高新技術(shù)
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 曾賢偉;曹鑫

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種為了在基板上對(duì)在掩模上描繪的電路圖案進(jìn)行曝光所使用的曝光方法及其裝置。

背景技術(shù)

以前，曝光裝置使用超高壓水銀燈作為光源。并且，通過(guò)從該超高壓水銀燈照射的光對(duì)固定在曝光臺(tái)上的基板曝光電路圖案。

但是，超高壓水銀燈一般壽命短。因此，用戶(hù)必須頻繁地進(jìn)行更換作業(yè)、以及伴隨著更換的光量調(diào)整作業(yè)，有麻煩的問(wèn)題。另外，超高壓水銀燈在接通電源后到照射穩(wěn)定的光量的光為止要花費(fèi)時(shí)間，因此，無(wú)法在裝置啟動(dòng)后馬上開(kāi)始曝光動(dòng)作。而且，超高壓水銀燈需要始終點(diǎn)亮，以便持續(xù)照射穩(wěn)定的光量的光，因此，還有消耗電力無(wú)論如何都很大的問(wèn)題。

另外，為了在基板曝光面上對(duì)高精度的電路圖案進(jìn)行曝光，理想的是曝光裝置能夠無(wú)間隙地以大致均勻的累積曝光量對(duì)曝光臺(tái)整個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光。因此，在現(xiàn)有的曝光裝置中，在定期檢查等時(shí)，檢測(cè)從光源照射的光量，進(jìn)行光量調(diào)整以使該光量在預(yù)定的容許范圍內(nèi)。但是，在定期檢查中必須停止整個(gè)基板生產(chǎn)線(xiàn)，被指出了效率低。而且，在該調(diào)整中，雖然能夠針對(duì)在檢查時(shí)檢測(cè)出的光量變化進(jìn)行調(diào)整，但有以下問(wèn)題，即無(wú)法檢測(cè)出實(shí)際的曝光工序中的光量的變化，例如伴隨著光源的老化的光量損失等，并進(jìn)行適當(dāng)?shù)难a(bǔ)償。

作為解決該問(wèn)題的方法，例如有在日本特開(kāi)2003-98678號(hào)公報(bào)(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)中記載那樣的使用利用了2維配置了多個(gè)LED的光源的曝光裝置用光源系統(tǒng)，隔著光掩模對(duì)涂敷了感光劑的基板進(jìn)行接近式曝光。

另外，在日本特開(kāi)2005-150774號(hào)公報(bào)(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)中，記載了在以多個(gè)LED為光源的照明裝置中，通過(guò)以不滿(mǎn)100％的占空比對(duì)LED進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，提高散熱效果，并提高發(fā)光效率。

在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中記載的以L(fǎng)ED為光源的曝光裝置用光源系統(tǒng)中，通過(guò)將光源從現(xiàn)有的使用燈的方式改變?yōu)?維排列多個(gè)LED的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)簡(jiǎn)單并且廉價(jià)的裝置，但沒(méi)有考慮到抑制光源的消耗電力、應(yīng)對(duì)光源的光量變動(dòng)。

另外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)2所記載的以多個(gè)LED為光源的照明裝置中，盡管記載了通過(guò)以未滿(mǎn)100％的占空比驅(qū)動(dòng)LED來(lái)提高散熱效果并提高發(fā)光效率，但沒(méi)有記載作為曝光裝置所需要的、在該提高了發(fā)光效率的狀態(tài)下確保在1次曝光時(shí)間內(nèi)所必需的曝光量。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，提供一種能夠減輕用戶(hù)的負(fù)擔(dān)，抑制消耗電力，并且始終能夠馬上使用調(diào)整為最佳光量的光進(jìn)行基板的曝光，并且小型且低成本的曝光方法及其裝置。

為了解決上述的問(wèn)題，在本發(fā)明中，將曝光裝置構(gòu)成為具備：曝光用光源單元，其發(fā)出曝光光；臺(tái)單元，其承載涂敷了感光劑的曝光用基板，并能夠在平面內(nèi)移動(dòng)；以及控制單元，其控制臺(tái)單元和曝光用光源單元，其中，曝光用光源單元具備2維排列了多個(gè)發(fā)光元件的光源部，控制單元在通過(guò)曝光用光源單元在預(yù)定的時(shí)間內(nèi)以預(yù)定的曝光總光量對(duì)承載在臺(tái)單元上的曝光用基板上涂敷的感光劑進(jìn)行曝光時(shí)，控制光源部，一邊依次改變照射條件一邊使得從該光源部發(fā)出多個(gè)脈沖光，對(duì)涂敷在曝光用基板上的感光劑進(jìn)行曝光。

另外，為了解決上述問(wèn)題，在本發(fā)明中，將曝光裝置構(gòu)成為具備：曝光用光源單元，其發(fā)出曝光光；臺(tái)單元，其承載涂敷了感光劑的曝光用基板，并能夠在平面內(nèi)移動(dòng)；控制單元，其控制臺(tái)單元和曝光用光源單元，其中，曝光用光源單元具備2維排列了多個(gè)發(fā)光元件的光源部，控制單元在通過(guò)曝光用光源單元在預(yù)定的時(shí)間內(nèi)以預(yù)定的曝光總光量對(duì)承載在臺(tái)單元上的涂敷了感光劑的曝光用基板進(jìn)行曝光時(shí)，控制光源部，從光源部向涂敷了感光劑的曝光用基板照射1次脈沖光，從而以預(yù)定的曝光總光量對(duì)涂敷在曝光用基板上的感光劑進(jìn)行曝光。

另外，為了解決上述問(wèn)題，在本發(fā)明中提供一種曝光方法，隔著掩模向涂敷了感光劑的曝光用基板照射從2維排列了多個(gè)發(fā)光元件的光源部發(fā)出的曝光光，在預(yù)定的時(shí)間內(nèi)以預(yù)定的曝光總光量對(duì)涂敷在該曝光用基板的表面上的感光劑進(jìn)行曝光，其中，一邊依次改變照射條件一邊使得從2維排列了多個(gè)發(fā)光元件的光源部發(fā)出多個(gè)脈沖光，并隔著掩模照射曝光用基板，從而在抑制光源部的溫度的上升的同時(shí)，在預(yù)定時(shí)間內(nèi)以預(yù)定的曝光總光量對(duì)涂敷在曝光用基板上的感光劑進(jìn)行曝光。

另外，為了解決上述問(wèn)題，在本發(fā)明中提供一種曝光方法，隔著掩模向曝光用基板照射從2維排列了多個(gè)發(fā)光元件的光源部發(fā)出的曝光光，在預(yù)定的時(shí)間內(nèi)以預(yù)定的曝光總光量對(duì)涂敷在該曝光用基板的表面上的感光劑進(jìn)行曝光，其中，使得從2維排列了多個(gè)發(fā)光元件的光源部發(fā)出1次脈沖光，并隔著掩模照射曝光用基板，從而在抑制光源部的溫度的上升的同時(shí)，在預(yù)定時(shí)間內(nèi)以預(yù)定的曝光總光量對(duì)涂敷在曝光用基板上的感光劑進(jìn)行曝光。