[發(fā)明專利]一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110413231.1
• 申請(qǐng)日: 2011-12-13
• 公開（公告）號(hào): CN102564246A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邵俊峰;郭勁;王挺峰;張合勇;孫濤;王銳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): F42B35/00
• 分類號(hào): F42B35/00;F42B15/01
• 代理公司: 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210
• 代理人: 張偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于內(nèi)場(chǎng)仿真研究領(lǐng)域，具體涉及一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)。

背景技術(shù)

為了應(yīng)對(duì)日益緊密的戰(zhàn)場(chǎng)偵察技術(shù)，出現(xiàn)了各種高功率或者脈沖激光光電對(duì)抗武器。光電對(duì)抗武器使用激光作為干擾源或者破壞源，通過(guò)大氣傳輸，將激光能量傳輸?shù)綄?duì)敵方來(lái)襲導(dǎo)彈、衛(wèi)星、無(wú)人機(jī)等各種偵察平臺(tái)的光電載荷，造成探測(cè)器干擾、損傷等效應(yīng)，破壞敵方光電傳感器的正常工作，實(shí)現(xiàn)有效對(duì)抗。作戰(zhàn)效能評(píng)估是光電對(duì)抗武器研發(fā)過(guò)程中的核心問題之一。

電子對(duì)抗是武器系統(tǒng)研發(fā)、測(cè)試和評(píng)估最復(fù)雜的一項(xiàng)技術(shù)。經(jīng)常出現(xiàn)的情況是，外場(chǎng)實(shí)驗(yàn)無(wú)法評(píng)估電子對(duì)抗武器的有效性。同時(shí)，考慮研發(fā)經(jīng)費(fèi)，外場(chǎng)實(shí)驗(yàn)的成本一般是非常高昂的。因此，作為電子戰(zhàn)的重要組成部分，光電對(duì)抗系統(tǒng)的評(píng)估需要借助于內(nèi)場(chǎng)仿真，一方面，解決外場(chǎng)評(píng)估的不確定性，另一方面降低研制成本。美國(guó)空軍為了解決機(jī)載紅外對(duì)抗系統(tǒng)的評(píng)估問題，開展了相關(guān)內(nèi)場(chǎng)仿真研究工作，例如美國(guó)空軍電子戰(zhàn)仿真器(The?US?Air?Force?Electronic?Warfare?Evaluation?Simulator，AFEWES?Hank?D.Jackson?II，Seth?D.Shepherd，Air?Force?Electronic?Warfare?Evaluation?Simulator(AFEWES)Infrared?Test?and?Evaluation?Capabilities[J]，Proceedings?of?SPIE，2004，Vol.5408：76-83.)提出了“硬件在回路”的半實(shí)物仿真理念，解決了機(jī)載紅外對(duì)抗系統(tǒng)的有效性評(píng)估問題。

但是，完全仿制美國(guó)AFEWES系統(tǒng)并不能完全滿足我國(guó)當(dāng)前軍事發(fā)展的需求。一方面該系統(tǒng)仍然無(wú)法滿足全實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)仿真需求，另一方面AFEWES系統(tǒng)采用龐大的光學(xué)成像系統(tǒng)，價(jià)格昂貴，同時(shí)，該系統(tǒng)主要仿真各種紅外背景條件下的機(jī)載紅外對(duì)抗，應(yīng)用對(duì)象的領(lǐng)域比較窄。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決背景技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明提供了一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)，該系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)半實(shí)物仿真，并且成本合理、可用于可見光和中長(zhǎng)波紅外各波段地基、機(jī)載光電對(duì)抗武器系統(tǒng)研發(fā)的評(píng)估等。

一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：橫梁、機(jī)械臂、直線電機(jī)、發(fā)射臺(tái)和激光源，該系統(tǒng)還包括：導(dǎo)彈導(dǎo)引頭、干擾激光發(fā)射器和目標(biāo)仿真源；所述導(dǎo)彈導(dǎo)引頭掛載在機(jī)械臂上，直線電機(jī)帶動(dòng)機(jī)械臂在橫梁上運(yùn)動(dòng)，所述干擾激光發(fā)射器和目標(biāo)仿真源固定在發(fā)射臺(tái)上。

本發(fā)明的有益效果是：本系統(tǒng)采用等效激光發(fā)散角的仿真干擾系統(tǒng)對(duì)紅外末制導(dǎo)導(dǎo)彈從10km外來(lái)襲之后激光對(duì)抗武器的跟瞄、作戰(zhàn)時(shí)機(jī)選擇和作戰(zhàn)性能進(jìn)行實(shí)時(shí)評(píng)估。同時(shí)，本發(fā)明可用于其它類型的干擾裝置熱源、點(diǎn)源干擾機(jī)等對(duì)來(lái)襲導(dǎo)彈末制導(dǎo)段的評(píng)估。

附圖說(shuō)明

圖1光電對(duì)抗武器的實(shí)際對(duì)抗過(guò)程示意圖。

圖2一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。

圖3一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)的導(dǎo)彈導(dǎo)引頭的結(jié)構(gòu)圖。

圖4一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)的發(fā)射臺(tái)結(jié)構(gòu)圖。

圖5一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)的干擾激光發(fā)射結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

一種基于機(jī)械臂的光電對(duì)抗內(nèi)場(chǎng)半實(shí)物仿真系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：橫梁7、機(jī)械臂8、直線電機(jī)9、發(fā)射臺(tái)11和激光源12，該系統(tǒng)還包括：導(dǎo)彈導(dǎo)引頭10、干擾激光發(fā)射器13和目標(biāo)仿真源14；所述導(dǎo)彈導(dǎo)引頭10掛載在機(jī)械臂8上，直線電機(jī)9帶動(dòng)機(jī)械臂8在橫梁7上運(yùn)動(dòng)，所述干擾激光發(fā)射器13和目標(biāo)仿真源14固定在發(fā)射臺(tái)11上。

所述導(dǎo)彈導(dǎo)引頭10包括導(dǎo)彈光電導(dǎo)引頭吊倉(cāng)15和高精度二維控制臺(tái)16，導(dǎo)彈光電導(dǎo)引頭吊倉(cāng)15和高精度二維控制臺(tái)16固連。

所述干擾激光發(fā)射器13包括基座20、觸動(dòng)器21和平面反射鏡22；觸動(dòng)器21固定在基座20上，平面反射鏡22放置在觸動(dòng)器21上，由觸動(dòng)器21調(diào)整平面反射鏡22的姿態(tài)。

所述觸動(dòng)器21由壓電陶瓷制成。

所述發(fā)射臺(tái)11包括轉(zhuǎn)動(dòng)基座17、編碼盤18和固定反射鏡19；激光源12發(fā)射激光經(jīng)過(guò)固定反射鏡19和平面反射鏡22至導(dǎo)彈導(dǎo)引頭10；編碼盤18和轉(zhuǎn)動(dòng)基座17連接并控制轉(zhuǎn)動(dòng)基座17轉(zhuǎn)動(dòng)。