[發明專利]聚吡咯涂層復合聚羥基丁酸酯膜電活性材料及其制備方法

無效

• 申請號: 201110412631.0
• 申請日: 2011-12-13
• 公開（公告）號: CN102514281A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 蔡志江
• 申請（專利權）人: 天津工業大學
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B37/15;C08J7/04;C08L67/04;C08G73/06
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1.一種電活性聚合物材料，其特征為，它由數均分子量為3000000～800000的聚羥基丁酸酯膜和在其表面涂層復合的聚吡咯構成。

2.一種電活性聚合物材料的制備方法，其特征是它包括下列步驟：

(1)將數均分子量為3000000～800000的聚羥基丁酸酯粉未溶于溶劑中配置成質量比為0.5％～3.5％(下同)的溶液，至充分溶解后過濾，所得過濾溶液澆注成膜，在室溫下徹底干燥；

(2)將干燥后的膜置于含0.1％～1％氯化氫的水溶液中，室溫下浸泡4～12小時，取出后用去離子水沖洗凈表面，室溫下徹底干燥；

(3)以三口燒瓶為容器，首先將容器用干燥的純氮氣沖洗，保證無殘余空氣和水份；在保持恒溫情況下向燒瓶加入一定量的氯仿；隨后在攪拌、氮氣保護條件下，再加入引發劑；在恒壓滴定漏斗中加入氯仿和吡咯單體，在以一定的速率恒定的滴加入到燒瓶中；恒溫攪拌下反應3～8小時；經過濾、洗滌、真空干燥得到聚吡咯；

(4)將合成得到聚吡咯分散在溶劑中，配制成分散液；通過噴霧法，將聚吡咯分散液噴涂在聚羥基丁酸酯膜表面，形成一層聚吡咯涂層，在室溫下徹底干燥；

(5)將膜置于含1％～5％氯化氫的水溶液中，室溫下浸泡4～12小時，取出后用去離子水沖洗凈表面，室溫下徹底干燥；

(6)在小于4×10⁴Pa的真空條件下對膜表面鍍金屬電極，電極層厚度小于0.1微米。

3.根據權利要求2所述的電活性聚合物材料的制備方法，其特征是所述的溶劑是三氯甲烷、N，N-二甲基甲酰胺、三氟乙酸或它們的混合物。

4.根據權利要求2所述的電活性聚合物材料的制備方法，其特征是所述的引發劑是下列之一：過硫酸銨，三氯化鐵。

5.根據權利要求2所述的電活性聚合物材料的制備方法，其特征是所述的單體用量與引發劑用量摩爾比為1∶1～1∶3；

6.根據權利要求2所述的電活性聚合物材料的制備方法，其特征是所述的是聚吡咯涂層厚度為20微米～100微米。

7.根據權利要求2所述的電活性聚合物材料的制備方法，其特征是所述的金屬電極是銅、銀、金或鉑。