[發(fā)明專利]核磁共振流體分析微檢測探頭

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110409749.8
• 申請日: 2011-12-09
• 公開（公告）號: CN102518434A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 肖立志;吳保松;李曉南;郭葆鑫;安天琳
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油大學(xué)（北京）
• 主分類號: E21B49/08
• 分類號: E21B49/08;G01V3/32
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 黃健

1.一種核磁共振流體分析微檢測探頭，其特征在于，包括：環(huán)形永磁體，以及套設(shè)在所述環(huán)形永磁體外壁上的高導(dǎo)磁外殼；

所述環(huán)形永磁體的中部設(shè)置有帶狀微線圈結(jié)構(gòu)，且所述帶狀微線圈結(jié)構(gòu)上套設(shè)有梯度線圈；

所述帶狀微線圈結(jié)構(gòu)包括上屏蔽銅層、上基板、帶狀線銅層、下基板和下屏蔽銅層；

所述上基板和下基板上分別設(shè)置有流體通道；

所述帶狀線銅層夾設(shè)在所述上基板和下基板之間，用于在施加電流作用下在所述流體通道內(nèi)形成射頻磁場；

所述上屏蔽銅層設(shè)置在所述上基板上，與所述帶狀線銅層背對的表面；

所述下屏蔽銅層設(shè)置在所述下基板上，與所述帶狀線銅層背對的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核磁共振流體分析微檢測探頭，其特征在于，所述帶狀線銅層包括有效帶狀線銅層和邊沿銅層；

所述有效帶狀線銅層的中部寬度小于端部的寬度，在所述有效帶狀線銅層的中部形成由兩側(cè)向內(nèi)凹陷的凹槽；

所述邊沿銅層設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，且所述邊沿銅層與所述有效帶狀線銅層之間具有間隙。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核磁共振流體分析微檢測探頭，其特征在于，所述凹槽和邊沿銅層的形狀均為梯形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的核磁共振流體分析微檢測探頭，其特征在于，所述上屏蔽銅層、帶狀線銅層和下屏蔽層通過MEMS技術(shù)制作而成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的核磁共振流體分析微檢測探頭，其特征在于，所述流體通道為橢圓形流體通道。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核磁共振流體分析微檢測探頭，其特征在于，所述上基板和下基板為硼酸玻璃基板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核磁共振流體分析儀微檢測探頭，其特征在于，所述流體通道的兩端分別連接有毛細(xì)管，用于將外部流體導(dǎo)入所述流體通道。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的核磁共振流體分析儀微檢測探頭，其特征在于，所述毛細(xì)管為采用聚醚醚酮樹脂制作得到的毛細(xì)管。