[發明專利]物品機無效
| 申請號: | 201110409324.7 | 申請日: | 2007-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN102540269A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 佟永駿;李寧;李君利;王學武 | 申請(專利權)人: | 同方威視技術股份有限公司;清華大學 |
| 主分類號: | G01V5/00 | 分類號: | G01V5/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 孫紀泉 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 物品 | ||
本申請是申請號為200710121357.5的中國發明專利申請(申請日:2007年9月5日;發明創造名稱:物品機)的分案申請。
技術領域
本發明涉及一種物品機。
背景技術
為了防止危險事故的發生,物品機廣泛應用于飛機場、火車站、地鐵站等公共場所。
圖1所示是一種最為常用的物品機,該物品機一般包括:輻射室101、設置在輻射室101內部的輻射源102、設置在輻射室101入口和出口處的防輻射長簾103和輸送被檢測物品105的輸送帶104。防輻射長簾103用于遮擋住輻射室101的入口和出口,防止射線外泄對使用者106造成危害。但是,現有的這種物品機卻存在如下缺點。當體積較大的被檢測物品(包裹等)被輸送到出口處時,該體積較大的物品就會掀起出口處的防輻射長簾(如圖1所示),特別是當使用者彎腰提起該體積較大物品時,輻射源發射的射線X就會從敞開的出口射出,直接照射到人體上(如圖1所示),這會對使用者造成一定的輻射危害,特別是對經常操作物品機的工作人員。因此,現有的物品機存在射線易于外泄、安全性能不佳的缺點。
發明內容
因此,本發明旨在解決現有物品機存在的射線易于外泄、安全性能不佳的技術問題。
為了實現上述目的,本發明提供了一種物品機,該物品機包括:輻射室(201)、設置在輻射室(201)內部的輻射源(202)、設置在輻射室(201)入口和出口處的防輻射長簾(203)和輸送被檢測物品(205)的輸送帶(204),其中,在輻射室(201)上還設置有至少一個防輻射短簾(203’),所述防輻射短簾(203’)的長度小于防輻射長簾(203)的長度。
本發明通過在輻射室(201)上增設防輻射短簾203’,當防輻射長簾203被掀起時,防輻射短簾203’可遮擋住大部分射線,因此,有效防止了射線外泄對人體造成危害的危險。
附圖說明
圖1是現有的物品機的結構示意圖;
圖2是本發明的物品機的第一實施例的結構示意圖;
圖3是本發明的物品機的第二實施例的結構示意圖;
圖4是本發明的物品機的第三實施例的結構示意圖;
圖5是本發明的物品機的第四實施例的結構示意圖。
具體實施方式
【第一實施例】
本說明書中的所有附圖都不是按照實際比例尺寸繪制的,其僅為用于解釋和說明本發明的示意性視圖。為了便于說明,不妨先設定所有附圖中的防輻射長簾203或防輻射短簾203’的長度方向為圖示的上下方向(即物品機的高度方向)。
圖2顯示了本發明的物品機的第一實施例。如圖2所示,該物品機包括:輻射室201,其用于形成對被檢測物品205進行輻射檢測的輻射檢測空間;輻射源202,其設置在輻射室201的內側頂部,用于發射射線對被檢測物品205進行輻射掃描;一對防輻射長簾203,其分別設置在輻射室201的入口和出口處,用于遮蓋住輻射室201的入口和出口以防止輻射室201內的射線外泄;輸送帶204,其穿過輻射室201所形成的輻射檢測空間,用于將被檢測物品205輸送到輻射室201內進行輻射掃描;一個防輻射短簾203’,其設置在輻射室201出口處的防輻射長簾203的內側,所述防輻射短簾203’的長度小于防輻射長簾203的長度。
如圖2所示,出口處的防輻射短簾203’與防輻射長簾203在圖示的前后方向上相距有第一間距。在本實施例中,該第一間距為50~100mm。請注意,本發明的第一間距不限于此,還可以是其它數值,其主要取決于被檢測物品的長度尺寸以及物品機前后方向上的長度。另外,需要說明的是,防輻射短簾203’與防輻射長簾203之間間隔布置并不是必須的,防輻射短簾(203’)與防輻射長簾(203)完全可以前后緊靠在一起,只要防輻射短簾(203’)由較硬的材料制成,不易被向上拉起即可。
如圖2所示,出口處的防輻射短簾203’的長度短于防輻射長簾203的長度,即,防輻射短簾203’的下端并不與輻射室201的底面(輸送帶204的上表面)接觸,其與輻射室201的底面(即輸送帶的上表面)在圖示的上下方向上相距有第二間距。在本實施例中,該第二間距為250~350mm。請注意,本發明的第二間距不限于此,還可以是其它數值,其主要取決于被檢測物品的大小以及物品機上下方向上的高度。
如圖2所示,本發明所使用的輻射源202是X射線輻射源。請注意,本發明的輻射源不限于此,還可以是電子束輻射源、γ射線輻照源或其它任何一種適用的輻照源。
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