[發明專利]電波暗室

有效

• 申請號: 201110408547.1
• 申請日: 2011-12-09
• 公開（公告）號: CN103163339A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 何等乾
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G01R1/18
• 分類號: G01R1/18;G01R31/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及電磁兼容領域，尤其涉及一種電波暗室。

背景技術

一般的電磁兼容（Electromagnetic?Compatibility，EMC）測試需要使用電波暗室作為測試場地。通常地，電波暗室分為全電波暗室及半電波暗室。全電波暗室的內表面完全鋪滿吸波材料，半電波暗室則有一部分內表面覆蓋吸波材料。通常的電波暗室為矩形體結構。該吸波材料一般為表面具有多個尖錐突起的鐵氧體和聚氨酯泡沫材料。電波暗室內可以放置需要進行EMC測試的電磁輻射源，例如計算機等電子裝置。當吸波材料表面的尖錐形突起垂直正對待測的電磁輻射源時，該吸波材料對于待測物產生的電磁波具有最大的吸收率。但是，傳統的電波暗室由于受到形狀限制，很難使其內表面鋪設的吸波材料表面形成的全部或絕大多數尖錐形突起同時垂直正對待測對電磁輻射源，較難獲得足夠大的電磁波吸收率。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種具有較高吸波率的電波暗室。

一種電波暗室，包括周壁及底面，該周壁內表面鋪設有吸波材料，吸波材料表面形成緊密排列的尖錐部。所述周壁包括銜接在一起的第一周壁及第二周壁，該第一周壁呈半圓柱形殼體狀，且第一周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端沿第一周壁的徑向延伸而指向第一周壁的中心軸。該第二周壁呈半球形殼體狀，該第二周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端垂直沿第二周壁的徑向延伸而指向第二周壁的球心。該電波暗室放置待測電子裝置及天線，用于進行EMC測試。

所述電波暗室通過將第一周壁與第二周壁設計為半圓柱形殼體狀及半球型殼體狀，使周壁表面鋪設的吸波材料表面形成的絕大多數尖錐部的頂端可以垂直正對待測電子裝置及天線。這樣，當待測電子裝置及天線產生非必要電磁波輻射至周壁時，吸波材料能最大程度地吸收這些電磁波，降低電磁波的非必要反射率，確保測試結果的準確性，從而提高了該電波暗室作為實驗室的精準度。

附圖說明

圖1為本發明較佳實施例的電波暗室的示意圖。

圖2為圖1所示電波暗室的部分截面圖。

主要元件符號說明

電波暗室100容置空間110周壁10第一周壁12第二周壁14吸波材料16尖錐部162底面20旋轉臺30測試桌32天線40待測計算機50

如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。

具體實施方式