[發(fā)明專利]盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110408480.1
• 申請(qǐng)日: 2011-12-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102592881A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉曉明;曹云東;賴增輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沈陽(yáng)工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): H01H33/664
• 分類號(hào): H01H33/664
• 代理公司: 沈陽(yáng)亞泰專利商標(biāo)代理有限公司 21107
• 代理人: 郭元藝

1.盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室，其特征在于，包括導(dǎo)電桿（1）、觸頭杯底（2）、鐵芯（7）及觸頭杯（3）；所述觸頭杯底（2）及觸頭杯（3）與導(dǎo)電桿（1）依次固定配接；在所述觸頭杯（3）上等份開(kāi)有環(huán)流槽；所述環(huán)流槽與導(dǎo)電桿（1）縱軸線的偏角為15～35°；所述鐵芯（7）置入觸頭杯（3）內(nèi)；在所述鐵芯（7）上等份開(kāi)有繞組槽（6）；所述繞組槽（6）內(nèi)置入線圈繞組（8）；兩組以上同軸線圈繞組（8）疊放置入繞組槽（6）內(nèi)并依次錯(cuò)開(kāi)一定角度θ。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室，其特征在于：所述繞組槽（6）的個(gè)數(shù)為12～30個(gè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室，其特征在于：所述繞組槽（6）的槽寬為2.5～3mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室，其特征在于：所述線圈繞組（8）沿徑向呈輻射狀分布成盤式結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室，其特征在于：在所述觸頭杯底（2）的端部固定設(shè)有觸頭片（5）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤型疊式旋磁橫吹真空滅弧室，其特征在于：所述角度θ在5°～15°之間。