[發明專利]一種氣相沉積用多層制品支架及化學氣相沉積反應室

有效

• 申請號: 201110404792.5
• 申請日: 2011-12-07
• 公開（公告）號: CN102424957A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發明（設計）人: 劉汝萃;劉汝強
• 申請（專利權）人: 山東國晶新材料有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/32;C23C16/42
• 代理公司: 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219
• 代理人: 呂利敏

1.一種化學氣相沉積用多層制品支架，其特征在于包括由圓套筒、布氣盤和支桿組成的單元層；所述單元層的結構是布氣盤置于圓套筒上，支桿直立固定在布氣盤上用于支撐待涂基板，在一個單元的布氣盤上放置另一個單元層的圓套筒；其中，所述圓套筒壁的上部對稱設有兩個凹口便于氣體流通；所述支桿有一尖端。

2.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，圓套筒外徑與布氣盤直徑相同。

3.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，所述布氣盤為設有通孔的石墨圓盤。

4.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，所述圓套筒高度為支桿固定在布氣盤上支撐基板后，基板頂部距離另一層布氣盤20-50mm。

5.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，所述支桿為鎢針。

6.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，所述圓套筒為石墨材質，壁厚6～8mm。

7.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，所述圓套筒壁上部的凹口形狀為弧形、長方形、方形或錐形。

8.如權利要求1所述的多層制品支架，其特征在于，所述多層基板支架由3～5個單元層組成。

9.一種化學氣相沉積反應室，包括權利要求1-8任一項所述的多層制品支架和反應室腔體，所述的多層制品支架置于腔體內進氣口上的進氣布氣板上，進氣口位于反應室底部，出氣口與進氣口相對位于反應室的頂部。

10.一種碳化硅涂層制品的生產方法，包括使用權利要求1-8任一項所述的多層制品支架，將所述的多層制品支架置于氣相沉積反應室腔體內進氣口上的進氣布氣板上，將待涂基板放置于支桿的尖端，3～4個支桿撐一個待涂基板，原料氣從反應室底部進入，反應后的氣體從反應室的頂部排出。