[發明專利]顯影方法、顯影裝置及具備該顯影裝置的涂敷顯影處理系統

有效

• 申請號: 201110401536.0
• 申請日: 2011-12-06
• 公開（公告）號: CN102540770A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 佐田徹也;后藤英昭;永田篤史;藤原真樹
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;H01L21/00;H01L21/677
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

技術領域

本發明涉及一種對形成于平板顯示器(FPD)用的玻璃基板等上的光致抗蝕劑膜進行顯影的顯影方法、顯影裝置、和具備該顯影裝置的涂敷顯影處理系統。?

背景技術

作為制造FPD的工序之一有光刻工序。在該工序中，進行在FPD用的玻璃基板上形成光致抗蝕劑膜，使用規定的光掩膜將該光致抗蝕劑膜進行曝光，將曝光后的光致抗蝕劑膜進行顯影的各步驟。?

伴隨著FPD用的玻璃基板的大型化，光致抗蝕劑膜的形成步驟和顯影步驟一般通過包含輥子和滾子等的搬送機構，一邊搬送玻璃基板，一邊進行(例如專利文獻1和2)。?

在光致抗蝕劑膜的顯影步驟中，一邊搬送玻璃基板，一邊進行對玻璃基板的顯影液的供給、規定時間的顯影、通過沖洗液對顯影液的沖洗、洗凈液的干燥。為了使這樣操作所形成的光致抗蝕劑圖案的線寬和孔(via)徑等在玻璃基板的面內均一化，期望將實質上的顯影時間(從供給顯影液并開始顯影到利用沖洗液沖洗顯影液停止顯影的時間)在玻璃基板的面內設為相同。因此，優選將向玻璃基板供給顯影液時的基板搬送速度和用沖洗液沖洗顯影液時的基板搬送速度設為相同(參照專利文獻3)。?

專利文獻1日本特開2007-5695號公報?

專利文獻2日本特開2008-159663號公報?

專利文獻3日本專利第3552187號說明書?

然而，為了顯影液的再利用，有時例如通過將玻璃基板傾斜，使顯影液從玻璃基板流下而回收顯影液。在該情況下，由于顯影液在玻璃基板上流動，因此在其流動的下游側，光致抗蝕劑膜接觸大量的顯影液、或顯影?液實質上被攪拌。這樣，有可能在顯影液的流動的下游側，促進光致抗蝕劑膜的顯影(例如線寬度變窄)，在玻璃基板的面內，光致抗蝕劑圖案不均一。即，在這種狀況下，即便將向玻璃基板供給顯影液時的基板的搬送速度和用沖洗液沖洗顯影液時的基板的搬送速度設為相同，也不能夠實現光致抗蝕劑圖案的均一化。?

另外，有時在向搬送來的玻璃基板的搬送方向的前端附近供給顯影液時(即開始供給顯影液時)，因顯影液的供給量(或者供給速度)和基板搬送速度，在玻璃基板上的顯影液中或產生湍流，或產生顯影液回流等，從而促進顯影。在該情況下，與玻璃基板的后端側相比，在前端側呈例如線寬度變窄的狀態。即，在這種狀況下，即便將向玻璃基板供給顯影液時的基板的搬送速度和用沖洗液沖洗顯影液時的基板的搬送速度設為相同，也不能實現光致抗蝕劑圖案的均一化。?

發明內容

發明要解決的課題?

鑒于上述情況，本發明提供一種通過控制向基板供給顯影液時的基板的搬送速度和去除顯影液時的基板的搬送速度，能夠使光致抗蝕劑圖案在基板的面內均一化的光致抗蝕劑圖案的顯影方法、顯影裝置、和具備該顯影裝置的涂敷顯影處理系統。?

根據本發明的第一方式，提供一種光致抗蝕劑膜的顯影方法，其包含一邊將在表面具有被曝光后的光致抗蝕劑膜的基板以第一搬送速度進行搬送，一邊向該表面供給顯影液的工序、將表面被上述顯影液覆蓋的上述基板以第二搬送速度搬送的工序、一邊以與上述第一搬送速度不同的第三搬送速度搬送上述基板，一邊用氣體將覆蓋該基板的表面的顯影液吹走(吹掉)的工序、接著上述吹走工序，一邊以上述第三搬送速度搬送上述基板，一邊向上述表面供給沖洗液的工序。?

根據本發明的第二方式，提供一種光致抗蝕劑膜的顯影裝置，包括：顯影液供給部，其具有將在表面具有被曝光后的光致抗蝕劑膜的基板進行搬送的第一搬送機構、和對由該第一搬送機構搬送的上述基板的表面供給顯影液的供給噴嘴；顯影部，其具有將表面被自上述供給噴嘴供給的上述顯影液覆蓋的上述基板進行搬送的第二搬送機構；吹氣部，其具有噴出氣?體來將覆蓋上述基板的表面的上述顯影液吹走的吹氣噴嘴、和朝向該吹氣噴嘴搬送上述基板的第三搬送機構；沖洗部，其具有向被吹走上述顯影液后的上述基板的表面供給沖洗液的沖洗液供給噴嘴；控制部，其以由上述第一搬送機構搬送的上述基板的第一搬送速度和由上述第三搬送機構搬送的上述基板的第三搬送速度不同的方式，控制上述第一搬送機構和上述第三搬送機構。?

根據本發明的第三方式，提供一種涂敷顯影處理系統，其具備在基板上形成光致抗蝕劑膜的光致抗蝕劑膜形成裝置和將被曝光的上述光致抗蝕劑膜進行顯影的光致抗蝕劑膜的顯影裝置。?

發明效果?

根據本發明的實施方式，提供通過控制向基板供給顯影液時的基板的搬送速度和去除顯影液時的基板的搬送速度，在基板的面內可以將光致抗蝕劑圖案均一化的光致抗蝕劑的顯影方法、顯影裝置、和具備該顯影裝置的涂敷顯影處理系統。?