[發(fā)明專利]多晶硅鑄錠用坩堝及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110397705.8 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102409394A | 公開(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王宇湖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州納迪微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B11/00 | 分類號(hào): | C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴 |
| 地址: | 215129 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多晶 鑄錠 坩堝 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于多晶硅鑄錠技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種多晶硅鑄錠用坩堝。?
背景技術(shù)
多晶硅是光伏產(chǎn)業(yè)的原材料。多晶硅太陽(yáng)能電池片的制作一般要通過(guò)多晶硅的鑄錠、開方、切片等道工序。目前,大多數(shù)的多晶硅鑄錠是通過(guò)石英坩堝來(lái)實(shí)現(xiàn)的。在多晶硅鑄錠工藝中,一般是將高純度的多晶硅塊料放入石英坩堝中,在惰性氣體中(一般為氬氣)升溫至高溫(1500℃以上)熔化,再緩慢冷卻至室溫,將完整的硅錠與破碎的石英坩堝進(jìn)行分離進(jìn)行鑄錠。為了可以順利脫模,在石英坩堝的內(nèi)表面要事先噴涂一層脫模劑材料,該材料通常是高純度(99.99%以上)的氮化硅粉體。該高純氮化硅涂層主要有幾個(gè)作用:一是防止石英坩堝中的金屬或非金屬雜質(zhì)在高溫的時(shí)候與多晶硅熔融體發(fā)生接觸,擴(kuò)散進(jìn)入多晶硅,使高純度的多晶硅造成污染;二是避免石英坩堝與硅錠在冷卻過(guò)程中發(fā)生粘連,導(dǎo)致脫模失敗;三是防止硅料與石英或石英玻璃在高溫下發(fā)生反應(yīng),生產(chǎn)一氧化硅氣體,污染整個(gè)電爐體系。多晶硅的熱膨脹系數(shù)遠(yuǎn)大于石英的熱膨脹系數(shù),如果這兩種不同熱膨脹系數(shù)的材料發(fā)生粘接,會(huì)使多晶硅錠與坩堝之間產(chǎn)生極大的應(yīng)力,使硅錠發(fā)生龜裂、破損,產(chǎn)生大量的次品。?
這種多晶硅的鑄錠模式所使用的石英坩堝只能使用一次,而無(wú)法反復(fù)使用。這是因?yàn)槭③釄逯械姆蔷B(tài)氧化硅在冷卻過(guò)程中會(huì)部分轉(zhuǎn)化為晶體相二氧化硅,導(dǎo)致坩堝的破裂、破碎。用于石英坩堝上的高純度氮化硅粉體純度要求高,只有少數(shù)廠商可以提供,價(jià)格昂貴,一般也只能使用一次而難以回收。光伏行業(yè)的興起使石英坩堝的使用量大大增加,也使高純氮化硅粉體的使用量大大增加。這些耗材的大量生產(chǎn)、使用消耗大量的能量與石英材料,是光伏產(chǎn)業(yè)的重要成本之一。開發(fā)能夠反復(fù)使用的多晶硅鑄錠用坩堝不但可以大大降低石英坩堝的使用量,也可以節(jié)約氮化硅粉體的使用,對(duì)節(jié)能減排,降低太陽(yáng)能電池片的生產(chǎn)成本意義重大。?
氮化硅作為一已知惰性的脫模材料,它與許多金屬材料在高溫下都不會(huì)發(fā)生反應(yīng),可以用于硅以及其他多種金屬材料的脫模。氮化硅陶瓷坩堝以及其他各種形狀的氮化硅陶瓷部件都有商業(yè)化產(chǎn)品,但大多是用等靜壓燒結(jié)等?陶瓷工藝制備,即:使用的原材料為各種純度的氮化硅粉體,該粉體經(jīng)過(guò)成型后,在高溫(1600℃以上)高壓下燒結(jié)而成。這種模式生產(chǎn)的氮化硅陶瓷坩堝有好的機(jī)械強(qiáng)度,也有好的耐高溫性能,但它一般尺寸都很小,一只坩堝一次只能熔融多晶硅數(shù)公斤至數(shù)十公斤,無(wú)法用于一次鑄錠在數(shù)百公斤的多晶硅鑄錠的工業(yè)化生產(chǎn)。另外,為了加速燒結(jié)效率,往往需要在氮化硅粉體中添加鐵,鈣,鋁等金屬雜質(zhì)作為燒結(jié)助劑,而這些雜質(zhì)的導(dǎo)入會(huì)最終影響多晶硅的純度。目前市場(chǎng)上沒有大尺寸的氮化硅坩堝可以使用于多晶硅的鑄錠。?
日本專利JP-59-162199公開了一種用反應(yīng)粘接氮化硅(RBSN)技術(shù)制備多晶硅鑄錠用坩堝方法,但由于硅在高溫氮化過(guò)程中會(huì)劇烈地產(chǎn)生大量的熱,如果在燒結(jié)過(guò)程中坩堝局部的溫度不加嚴(yán)格控制,容易使最終的氮化硅坩堝產(chǎn)生微裂紋。另外,用該技術(shù)生產(chǎn)的坩堝,熔融的硅料容易與坩堝間產(chǎn)生粘接,導(dǎo)致脫模時(shí)坩堝破裂,無(wú)法多次使用。?
中國(guó)發(fā)明申請(qǐng)ZL200780023521.7公開了一種應(yīng)用NBSN技術(shù)制備氮化硅坩堝的方法,該方法使用氮化硅與硅粉的混合物經(jīng)過(guò)成型后,在高溫純氮的氣氛中氮化,生成氮化硅坩堝用固態(tài)板材料。該技術(shù)的核心是用氮化硅粉體的摻入來(lái)控制純粹硅粉氮化,制備坩堝的溫度不可控,難以使硅粉完全徹底氮化。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供一種多晶硅鑄錠用坩堝,解決了現(xiàn)有技術(shù)中多晶硅鑄錠用坩堝采用石英坩堝而不能重復(fù)使用、其他坩堝制備方法不穩(wěn)定、無(wú)法重復(fù)使用等問題。?
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的這些問題,本發(fā)明提供的技術(shù)方案是:?
一種多晶硅鑄錠用坩堝,包括坩堝本體,其特征在于所述坩堝本體中組分以重量百分比含量計(jì)包括:?
Si3N4??????????????60%~98%;?
SiO2和/或SiNxOy????2%~40%;?
其中x、y滿足關(guān)系式:3×x+2×y=4。?
優(yōu)選的,所述坩堝本體中組分以重量百分比含量計(jì)包括:?
Si3N4??????????????70%~98%;?
SiO2和/或SiNxOy????2%~30%;?
其中x、y滿足關(guān)系式:3×x+2×y=4。?
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