[發明專利]用于甲烷合成的反應裝置及甲烷合成方法

無效

• 申請號: 201110397615.9
• 申請日: 2011-12-05
• 公開（公告）號: CN102489222A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: 劉雪飛;趙海龍;劉鵬翔;王志彬;張建祥;?？∈?/a>
• 申請（專利權）人: 新地能源工程技術有限公司
• 主分類號: B01J8/02
• 分類號: B01J8/02;B01J8/04;C07C9/04;C07C1/12;C07C1/04
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 賀衛國

1.一種甲烷合成裝置，所述甲烷合成裝置具有原料氣進口、中部的催化劑床層及其下游的反應產物出口，所述催化劑床層的上游設有一級氣體分布系統，所述催化劑床層的下游設有二級氣體分布系統。

2.根據權利要求1所述的甲烷合成裝置，其中，所述一級氣體分布系統設有原料氣進料防沖板和設于催化劑床層的上游的惰性瓷球層。

3.根據權利要求1所述的甲烷合成裝置，其中，所述二級氣體分布系統設有催化劑床層下游的惰性瓷球層和磚砌拱頂，拱頂上有多個孔道。

4.根據權利要求2所述的甲烷合成裝置，其中，所述原料氣進料防沖板由一個圓盤和多個吊桿構成，其中所述圓盤的直徑為原料氣進口內徑的0.5～1.5倍，優選為1～1.2倍；所述吊桿長度與所述催化劑床層上游的惰性瓷球層的上表面至圓盤的距離的比為0.2～1，優選為0.4～0.7。

5.根據權利要求2所述的甲烷合成裝置，其中，所述磚砌拱頂的弧度為60～150°，優選80～130°；所述孔道的軸心均大致指向拱頂球心，所述磚砌拱頂的具有弧形部分的開孔率以面積％計為1％～20％，優選8％～15％。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的甲烷合成裝置，其中，所述催化劑床層上游的惰性瓷球層的層數為2～3層，所述催化劑床層下游的惰性瓷球層的層數為2～4層，每層的鋪設高度為50～300mm，優選80～160mm；所述惰性瓷球的粒徑為φ1～φ80mm，優選φ10～φ60mm。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的甲烷合成裝置，所述甲烷合成裝置還包括與所述下游的反應產物出口連接的廢熱鍋爐。

8.根據權利要求7所述的甲烷合成裝置，其中，所述廢熱鍋爐為臥式廢熱鍋爐，所述下游的反應產物出口與所述廢熱鍋爐通過法蘭或焊接直接連接。

9.一種合成甲烷的方法，所述方法使用根據權利要求1至8中任一項所述的甲烷合成裝置進行。