[發明專利]去除煤化工廢水難生物降解物質的混凝吸附脫酚沉淀裝置

無效

• 申請號: 201110397451.X
• 申請日: 2011-12-05
• 公開（公告）號: CN102491466A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: 韓洪軍;趙茜;徐春艷;張凌翰;周飛祥
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52;C02F1/28;C02F101/34
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 韓末洙

技術領域

本發明涉及一種降解煤化工廢水中的有毒有害污染物的裝置，具體涉及一種去除煤化工廢水難生物降解物質的混凝吸附脫酚沉淀裝置，屬于污水處理技術領域。

背景技術

目前，國內外煤化工廢水的治理工藝主要是由物化和生化工藝組合而成的。經過預處理后的煤化工廢水，國內外一般采用缺氧、好氧生物處理工藝(A/O處理工藝)對其進行進一步的處理，但廢水中含有一些多環和雜環類化合物，出水仍難以實現達標排放。為了解決上述問題，近年來出現了一些新的方法，如膜生物處理工藝、流化床處理工藝、厭氧生物處理工藝、高級氧化技術處理工藝和混凝、吸附處理工藝等。雖然煤化工廢水處理工藝不斷有新的方法和技術出現，可各方法和裝置仍存在一定的弊端。單純的好氧生物技術因出水仍含有一定量的難降解有機物而難以達到排放標準，并且運行成本也較高。應用缺氧-好氧生物處理技術處理煤化工廢水，雖然可以獲得較好的處理效果，而且運行管理費和成本相對較低，但當原水氨氮濃度較高，含有較多難降解有機物時出水難以穩定達標。吸附處理技術雖能夠去除大部分有機物，但存在吸附劑的再生和二次污染的問題。高級氧化技術處理技術雖能降解眾多難以生物降解的有機物，但在工業應用中存在運行費用過高的問題。因此，采用組合生物處理工藝是煤化工廢水處理技術的發展方向。

兩級兩相厭氧工藝和好氧生物處理技術被選擇作為生物降解的前兩步。然而，出水中依然含有部分的有毒有機物殘留和懸浮物，這部分多環和雜環類化合物大多是微生物無法降解的，因此若繼續采用生物處理工藝，會導致極低的去除率。若直接用生物濾池或者高級氧化處理工藝，則會由于進水污染物負荷過高致使出水難以穩定達標，造成處理事故。

發明內容

本發明的目的是為了解決煤化工廢水好氧處理后依然含有部分的有毒有機物殘留和懸浮物，這部分多環和雜環類化合物大多是微生物無法降解，為后續高級氧化工藝增加了污染物負荷的問題，進而提供一種去除煤化工廢水難生物降解物質的混凝吸附脫酚沉淀裝置。

本發明的技術方案是：去除煤化工廢水難生物降解物質的混凝吸附脫酚沉淀裝置包括第一方形圍墻、第二方形圍墻、第三方形圍墻、污泥管道間、污泥儲存池、進水管、提升式攪拌機的攪拌頭、絮凝劑管道、脫色劑管道、導流筒、提升式攪拌機的攪拌器中心軸、提升電機、導流平臺、隔墻、提升式刮泥機的刮泥器、泥斗、污泥回流泵、第一污泥回流管、第二污泥回流管、可調速葉槳攪拌機的攪拌頭、可調速葉槳攪拌機的攪拌桿、可調速葉槳攪拌機的調速電機、提升式刮泥機的傳動桿和刮泥電機；

可調速葉槳攪拌機包括可調速葉槳攪拌機的攪拌頭、可調速葉槳攪拌機的攪拌桿和可調速葉槳攪拌機的調速電機，提升式刮泥機包括提升式刮泥機的刮泥器、提升式刮泥機的傳動桿和刮泥電機；提升式攪拌機包括提升式攪拌機的攪拌頭、提升式攪拌機的攪拌器中心軸和提升電機；

第一方形圍墻、第二方形圍墻和第三方形圍墻并列排布，第一方形圍墻圍成的區域為吸附區，第二方形圍墻圍成的區域為絮凝區，第一方形圍墻與第二方形圍墻共用一側壁，第一方形圍墻的邊長小于第二方形圍墻的邊長，第三方形圍墻圍成的區域為輻流式沉淀區，第二方形圍墻與第三方形圍墻共用一側壁，第二方形圍墻的邊長小于第三方形圍墻的邊長，吸附區的下方設置有污泥儲存池，絮凝區的下方設置有污泥管道間；

進水管安裝在第一方形圍墻的側壁上，且進水管與吸附區連通，可調速葉槳攪拌機的攪拌頭設置在吸附區的中央，可調速葉槳攪拌機的攪拌桿的下端與攪拌頭連接，可調速葉槳攪拌機的攪拌桿的上端穿出第一方形圍墻的頂板與可調速葉槳攪拌機的調速電機連接，活性炭和硅藻土投加在吸附區內，吸附區的內壁上形成吸附層，絮凝劑管道和脫色劑管道均安裝在第一方形圍墻的頂板上，且絮凝劑管道和脫色劑管道均與吸附區連通，絮凝劑通過絮凝劑管道進入吸附區，脫色劑通過脫色劑管道進入吸附區，第一方形圍墻與第二方形圍墻共用側壁的上部開有吸附區出水口，水流通過吸附區出水口進入絮凝區；

絮凝區內設有導流筒，提升式攪拌機的攪拌頭置于導流筒內，提升式攪拌機的攪拌器中心軸的下端與提升式攪拌機的攪拌頭連接，提升式攪拌機的攪拌器中心軸的上端由下至上依次穿過導流筒頂板和第二方形圍墻的頂板與提升電機連接，第二方形圍墻的底板上設置有導流平臺，隔墻設置在絮凝區內，隔墻的上端與第二方形圍墻的頂板連接，隔墻的下端與第二方形圍墻的底板之間留有空隙，隔墻和第二方形圍墻與第三方形圍墻共用側壁之間形成導流縫，第二方形圍墻與第三方形圍墻共用側壁的上部開有絮凝區出水口，水流通過隔墻下端的空隙進入導流縫向上流動，通過絮凝區出水口進入輻流式沉淀區；