[發(fā)明專利]研磨液組合物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110396859.5 | 申請(qǐng)日： | 2011-12-02 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN102533127A | 公開(kāi)（公告）日： | 2012-07-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吉野太基 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 花王株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | C09G1/02 | 分類號(hào)： | C09G1/02;C09K3/14;B24B37/04 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 研磨 組合 | ||
1.一種研磨液組合物，其含有研磨材料、水溶性聚合物以及水，所述水溶性聚合物具有磺酸基且在主鏈以及側(cè)鏈上分別具有芳香環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨液組合物，所述水溶性聚合物是具有在重復(fù)單元的主鏈以及側(cè)鏈上分別具有芳香環(huán)的結(jié)構(gòu)單元和具有磺酸基的結(jié)構(gòu)單元的水溶性共聚物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨液組合物，所述水溶性聚合物是通過(guò)和甲醛的加成縮合而合成的水溶性聚合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述水溶性聚合物具有在重復(fù)單元的主鏈以及側(cè)鏈上分別具有芳香環(huán)的下述通式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元A，
式(I)中，X為結(jié)合鍵、-CH2-、-S-、-SO2-、-C(CH3)2-或者R1以及R2相同或者不同，為氫原子、烷基、烷氧基、芳烷基或者-OM，M選自由堿金屬，堿土金屬、有機(jī)陽(yáng)離子以及氫原子構(gòu)成的組。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨液組合物，在所述式(I)中，X為-SO2-或者-CH2-。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的研磨液組合物，在所述式(I)中，R1以及R2為-OM，M為鈉、鉀、銨或者氫原子。
7.根據(jù)權(quán)利要求4～6中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述結(jié)構(gòu)單元A在構(gòu)成所述水溶性共聚物的全部結(jié)構(gòu)單元中所占的含量為5～70摩爾％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述水溶性聚合物具有下述通式(II)表示的具有磺酸基的結(jié)構(gòu)單元B，
式(II)中，R3為氫原子、烷基、烷氧基、芳烷基或者-OM2，M1以及M2相同或者不同，選自由堿金屬、堿土金屬、有機(jī)陽(yáng)離子以及氫原子構(gòu)成的組。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的研磨液組合物，在所述式(II)中，R3為-OM1，M1為鈉、鉀、銨或者氫原子。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的研磨液組合物，所述結(jié)構(gòu)單元B在構(gòu)成所述水溶性共聚物的全部結(jié)構(gòu)單元中所占的含量為30～95摩爾％。
11.根據(jù)權(quán)利要求8～10中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，構(gòu)成所述水溶性共聚物的全部結(jié)構(gòu)單元中的結(jié)構(gòu)單元A和結(jié)構(gòu)單元B的摩爾比即結(jié)構(gòu)單元A/結(jié)構(gòu)單元B為70/30～5/95。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述水溶性聚合物的表面張力為45～100mN/m。
13.根據(jù)權(quán)利要求1～12中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述水溶性聚合物的重均分子量為500～120000。
14.根據(jù)權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述研磨液組合物中的所述水溶性聚合物的含量為0.001～1重量％。
15.根據(jù)權(quán)利要求1～14中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，作為所述水溶性聚合物的殘存單體的甲醛含量為0ppm或者超過(guò)0ppm且為10000ppm以下。
16.根據(jù)權(quán)利要求1～15中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述研磨液組合物中的甲醛含量為10ppm以下。
17.根據(jù)權(quán)利要求1～16中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述研磨材料為膠體二氧化硅，所述膠體二氧化硅的基于散射強(qiáng)度分布測(cè)得的平均粒徑為1～40nm。
18.根據(jù)權(quán)利要求1～17中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述研磨液組合物中的所述研磨材料的含量為0.5重量％以上。
19.根據(jù)權(quán)利要求1～18中任一項(xiàng)所述的研磨液組合物，所述研磨液組合物進(jìn)一步包含酸以及/或者其鹽，所述酸為無(wú)機(jī)酸或者有機(jī)膦酸。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的研磨液組合物，所述無(wú)機(jī)酸為硝酸、硫酸、鹽酸、高氯酸或者磷酸。
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