[發(fā)明專利]二硅化鉬基耐磨復(fù)合涂層及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110396775.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103132005A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 顏建輝;劉龍飛;唐思文;胡小平;許劍光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖南科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C4/10 | 分類號(hào): | C23C4/10;C23C4/12;C23C4/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 411201*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 二硅化鉬基 耐磨 復(fù)合 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.二硅化鉬基耐磨復(fù)合涂層,其特征在于:該復(fù)合涂層由過渡層和MoSi2涂層組成,所述過渡層為Mo材料,MoSi2涂層的厚度為160~300μm。
2.一種權(quán)利要求1所述二硅化鉬基耐磨復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于:包括下述步驟:
(1)制備噴涂粉末:用粒徑為0.05~0.2μm超細(xì)的MoSi2粉體為原料,利用離心噴霧干燥機(jī)進(jìn)行造粒,然后采用真空微波燒結(jié)的方法制備團(tuán)聚MoSi2粉體,過篩分級(jí)得到粒度范圍在18~54μm的MoSi2球形粉末;
(2)采用等離子噴涂技術(shù)在預(yù)處理后的基材材料表面噴涂Mo過渡層;
(3)以步驟(1)所得的MoSi2球形粉末為原料,采用等離子噴涂技術(shù)在過渡層表面噴涂MoSi2涂層,噴涂工藝參數(shù)為:等離子噴涂機(jī)輸出電壓:55~70V,輸出電流:500~600A,主氣流:氬氣流量35~60L/min,送粉速度:15~50g/min,噴涂距離:60~120mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的二硅化鉬基耐磨復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于步驟(1)中真空微波燒結(jié)方法制備團(tuán)聚MoSi2粉體的溫度為1200℃,時(shí)間為15min。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





