[發明專利]折射率分布測量方法、裝置和制造光學元件的方法

有效

• 申請號: 201110396388.8
• 申請日: 2011-12-02
• 公開（公告）號: CN102564738A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 加藤正磨
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G02B5/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 康建忠

1.一種折射率分布測量方法，用于通過使用具有第一折射率的第一介質和具有第二折射率的第二介質來測量被檢體的折射率分布，第一折射率和第二折射率相互不同并且與被檢體的折射率不同，所述方法包括：

透過波前測量步驟，使得基準光入射到被放置于第一介質中的被檢體以測量被檢體的第一透過波前，并且使得基準光入射到被放置于第二介質中的被檢體以測量被檢體的第二透過波前；

基準透過波前計算步驟，計算當使得基準光入射到被放置于第一介質中的具有已知的形狀和已知的折射率分布的基準被檢體時能夠獲取的基準被檢體的第一基準透過波前，并且計算當使得基準光入射到被放置于第二介質中的所述基準被檢體時能夠獲取的所述基準被檢體的第二基準透過波前；和

折射率分布計算步驟，通過使用第一和第二透過波前以及第一和第二基準透過波前計算從中去除了被檢體的形狀分量的折射率分布，

其特征在于，透過波前測量步驟通過使得基準光入射到以多個放置狀態被放置于第一介質中的被檢體來測量第一透過波前，并且通過使得基準光入射到以所述多個放置狀態被放置于第二介質中的被檢體來測量第二透過波前，

所述方法還包括對準誤差計算步驟，所述對準誤差計算步驟計算相對于被檢體的放置狀態的變化的像差靈敏度，并且通過使用所述像差靈敏度和在所述多個放置狀態中測量的第一和第二透過波前來計算在第一和第二透過波前的測量中的所述多個放置狀態中的每一個中的被檢體的對準誤差，以及

基準透過波前計算步驟計算分別在使得基準光入射到以包含所述對準誤差的放置狀態被放置于第一介質和第二介質中的基準被檢體時能夠獲取的第一和第二基準透過波前。

2.根據權利要求1的折射率分布測量方法，其中，對準誤差計算步驟通過使用第一和第二透過波前以及第一和第二基準透過波前使被檢體的形狀分量與對準誤差分離來計算對準誤差。

3.一種折射率分布測量裝置，被配置用于通過使用具有第一折射率的第一介質和具有第二折射率的第二介質來測量被檢體的折射率分布，第一折射率和第二折射率相互不同并且與被檢體的折射率不同，所述裝置包括：

透過波前測量部分，被配置用于使得基準光入射到被放置于第一介質中的被檢體以測量被檢體的第一透過波前，并且使得基準光入射到被放置于第二介質中的被檢體以測量被檢體的第二透過波前；

基準透過波前計算部分，被配置用于計算當使得基準光入射到被放置于第一介質中的具有已知的形狀和已知的折射率分布的基準被檢體時能夠獲取的基準被檢體的第一基準透過波前，并且計算當使得基準光入射到被放置于第二介質中的所述基準被檢體時能夠獲取的所述基準被檢體的第二基準透過波前；和

折射率分布計算部分，被配置用于通過使用第一和第二透過波前以及第一和第二基準透過波前計算從中去除了被檢體的形狀分量的折射率分布，

其特征在于，透過波前測量部分被配置用于通過使得基準光入射到以多個放置狀態被放置于第一介質中的被檢體來測量第一透過波前，并且通過使得基準光入射到以所述多個放置狀態被放置于第二介質中的被檢體來測量第二透過波前，

所述裝置還包括對準誤差計算部分，所述對準誤差計算部分被配置用于計算相對于被檢體的放置狀態的變化的像差靈敏度，并且通過使用所述像差靈敏度和在所述多個放置狀態中測量的第一和第二透過波前來計算在第一和第二透過波前的測量中的所述多個放置狀態中的每一個中的被檢體的對準誤差，以及

基準透過波前計算部分被配置用于計算分別在使得基準光入射到以包含所述對準誤差的放置狀態被放置于第一介質和第二介質中的基準被檢體時能夠獲取的第一和第二基準透過波前。