[發(fā)明專利]一種獲得超材料折射率分布的方法及其裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110396297.4
• 申請日: 2011-12-02
• 公開（公告）號: CN103136405A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉若鵬;季春霖;岳玉濤;李勇祥
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳光啟高等理工研究院
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 何青瓦

1.一種獲得超材料折射率分布的方法，其特征在于，包括：

采用仿真方式使電磁波透過所述超材料；

獲取用以描述和衡量所述超材料對電磁波響應(yīng)的數(shù)據(jù)，包括所述電磁波透過所述超材料后的遠場數(shù)據(jù)；

判斷目標(biāo)遠場數(shù)據(jù)與所述獲取的仿真遠場數(shù)據(jù)之間的差距是否大于閾值；

若所述遠場數(shù)據(jù)之間的差距大于閾值，改變所述超材料的折射率分布，并返回采用仿真方式使電磁波透過所述超材料的步驟，直至所述遠場數(shù)據(jù)之間的差距小于或等于閾值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，

所述改變超材料的折射率分布的步驟包括：改變超材料上n個點的折射率分布，并通過該改變后的n個點的折射率分布利用插值方法擬合得到改變后的超材料折射率分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，

所述改變超材料的折射率分布的步驟還包括：利用插值方法擬合得到改變后的超材料折射率分布后通過交叉熵算法優(yōu)化所得到的折射率分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，

所述判斷目標(biāo)遠場數(shù)據(jù)與所述獲取的仿真遠場數(shù)據(jù)之間的差距是否大于閾值的步驟包括：采用評價函數(shù)來判斷目標(biāo)遠場數(shù)據(jù)與獲取的仿真遠場數(shù)據(jù)之間的差距是否大于閾值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項所述的方法，其特征在于，

所述獲取用以描述和衡量超材料對電磁波響應(yīng)的數(shù)據(jù)的步驟包括：利用matlab軟件和comsol軟件的接口提取出comsol軟件內(nèi)仿真得到的數(shù)據(jù)，以獲取用以描述和衡量所述超材料對電磁波響應(yīng)的數(shù)據(jù)。

6.一種獲得超材料折射率分布的裝置，其特征在于，包括：

仿真測試模塊，用于采用仿真方式使電磁波透過所述超材料；

數(shù)據(jù)采集模塊，用于獲取用以描述和衡量所述超材料對電磁波響應(yīng)的數(shù)據(jù)，包括所述電磁波透過所述超材料后的遠場數(shù)據(jù)；

差距分析模塊，用于判斷目標(biāo)遠場數(shù)據(jù)與所述獲取的仿真遠場數(shù)據(jù)之間的差距是否大于閾值；

判斷模塊，用于在所述遠場數(shù)據(jù)之間的差距大于閾值時，改變所述超材料的折射率分布，并返回采用仿真方式使電磁波透過所述超材料的步驟，直至所述遠場數(shù)據(jù)之間的差距小于或等于閾值。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，

所述判斷模塊具體用于改變超材料上n個點的折射率分布，并通過該改變后的n個點的折射率分布利用插值方法擬合得到改變后的超材料折射率分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，

所述判斷模塊具體用于利用插值方法擬合得到改變后的超材料折射率分布后通過交叉熵算法優(yōu)化所得到的折射率分布。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，

所述差距分析模塊具體用于采用評價函數(shù)來判斷目標(biāo)遠場數(shù)據(jù)與獲取的仿真遠場數(shù)據(jù)之間的差距是否大于閾值。

10.根據(jù)權(quán)利要求6至9任一項所述的裝置，其特征在于，

所述數(shù)據(jù)采集模塊具體用以利用matlab軟件和comsol軟件的接口提取出comsol軟件內(nèi)仿真得到的數(shù)據(jù)，以獲取用以描述和衡量所述超材料對電磁波響應(yīng)的數(shù)據(jù)。