[發明專利]蒸鍍設備以及蒸鍍方法無效
| 申請號: | 201110396270.5 | 申請日: | 2011-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN102400103A | 公開(公告)日: | 2012-04-04 |
| 發明(設計)人: | 蔡坤錦 | 申請(專利權)人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁揮;祁建國 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 設備 以及 方法 | ||
1.一種蒸鍍設備,用于處理一基板,該基板具有一基板對位標記,其特征在于,該蒸鍍設備包括:
一遮罩,位于該基板的下方,該遮罩具有多個側邊,且任兩個相鄰的側邊之間具有一轉角區域,其中該遮罩的其中一轉角區域中具有一遮罩對位標記,該遮罩對位標記對應該基板對位標記設置,且該遮罩對位標記具有一第一部份以及一第二部分;
一蒸鍍源,位于該遮罩的下方:
一磁性板,位于該基板的上方;以及
至少一對位檢測裝置,其中該對位檢測裝置對應該基板對位標記與該遮罩對位標記設置,且該對位檢測裝置的一檢測方向與該基板的一表面之間具有一銳角夾角θ,該對位檢測裝置藉由該基板對位標記與該遮罩對位標記的該第一部份之間的對位以及該基板對位標記與該遮罩對位標記的該第二部份的對位,以確定該基板與該遮罩彼此對準。
2.如權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于,該基板對位標記與該遮罩對位標記的該第一部份以及該第二部份之間的一鄰接處對準。
3.如權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于,θ>30度。
4.如權利要求3所述的蒸鍍設備,其特征在于,該遮罩與該基板之間的距離為H1,該遮罩對位標記的該第一部份的長度L1>H1/(tanθ),且該遮罩對位標記的該第二部份的長度L2>H1/(tanθ)。
5.如權利要求4所述的蒸鍍設備,其特征在于,該遮罩對位標記的該第一部份與該遮罩的邊緣之間的一最短距離為15~25mm,該遮罩對位標記的該第二部份與該遮罩的邊緣之間的一最短距離為15~25mm。
6.如權利要求4所述的蒸鍍設備,其特征在于,該遮罩與該基板之間的距離H1為1~3mm。
7.如權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于,該遮罩對位標記的該第一部份與該第二部份分別為一直線圖案,且該第一部份與該第二部份彼此垂直。
8.如權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于,該遮罩對位標記的該第一部份與該第二部份分別為排列成直線狀的多個點狀圖案,且該第一部份的該些點狀圖案的排列方向與該第二部份的該些點狀圖案的排列方向彼此垂直。
9.如權利要求1所述的蒸鍍設備,其特征在于:
該遮罩對位標記的數目為二,該二遮罩對位標記分別位于該遮罩的一對角線的兩端;以及
該基板對位標記的數目為二。
10.如權利要求9所述的蒸鍍設備,其特征在于,該對位檢測裝置的數目為二,該二對位檢測裝置分別對應位于該遮罩的該對角線兩端的遮罩對位標記設置。
11.如權利要求9所述的蒸鍍設備,其特征在于,該二遮罩對位標記以該遮罩的一中心點對稱設置。
12.一種蒸鍍方法,其特征在于,包括:
提供一蒸鍍設備,其如權利要求1所述;
利用該對位檢測裝置對該基板與該遮罩進行一對位步驟,其中該對位步驟包括利用該對位檢測裝置以偵測該基板對位標記與該遮罩對位標記的該第一部份之間的對位以及該基板對位標記與該遮罩對位標記的該第二部份的對位;
將該遮罩與該基板貼合,并利用該磁性板的磁性作用以確保該遮罩與該基板貼合;
利用該蒸鍍源進行一蒸鍍程序,以于該基板上形成一圖案。
13.如權利要求12所述的蒸鍍方法,其特征在于,于進行該對位步驟之后,更包括將該磁性板往該基板靠近,以使該磁性板之磁性作用可使該遮罩與該基板貼合。
14.如權利要求12所述的蒸鍍方法,其特征在于:
該遮罩對位標記的數目為二,該二遮罩對位標記分別位于該遮罩的一對角線的兩端;
該基板對位標記的數目為二;
該對位檢測裝置的數目為二,該二對位檢測裝置分別對應位于該遮罩的該對角線兩端的遮罩對位標記設置;以及
該對位步驟包括分別使用所述兩個對位檢測裝置對該二遮罩對位標記以及該二基板對位標記進行對位。
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