[發明專利]基于分束偏折結構的小光斑離軸對準系統

有效

• 申請號: 201110394372.3
• 申請日: 2011-12-02
• 公開（公告）號: CN103135371A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 李運鋒;宋海軍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種用于光刻設備的對準系統，包括：

提供對準照明光束的光源與照明模塊；

對對準標記進行成像的成像模塊；

參考光柵；

采集透過參考光柵的光強信號并進行處理的信號采集處理模塊；

承載其上具有對準標記的硅片的運動臺；

采集承載硅片的工件臺的位置信息，并與對準操作與管理模塊進行同步談判，規劃運動軌跡，控制運動臺運動的位置采集與運動控制模塊；

和接收信號采集處理模塊和位置采集與運動控制模塊的信號的對準操作與管理模塊，其特征在于：

所述成像模塊具有分束偏折結構，用于使對準標記各標記分支的+1級光和-1級光均發生分束和偏折，然后分別相干成像在參考光柵的子光柵上。

2.根據權利要求1所述的對準系統，其特征在于：所述照明光束的尺寸小于標記分支尺寸。

3.根據權利要求2所述的對準系統，其特征在于：所述分束偏折結構包括各自獨立的分束器和偏折器。

4.根據權利要求3所述的對準系統，其特征在于：所述分束器放置于成像模塊的頻譜面各標記分支±1光路通過的位置處。

5.根據權利要求3所述的對準系統，其特征在于：所述分束器為半透半反射面和全反射面組合的形式，光束通過半透半反射面后，一部分透過該面出射，另一部分被反射至全反射面后由全反射面反射并出射。

6.根據權利要求1-5中任意一個所述的對準系統，其特征在于：所分成的兩束光的能量之比為1：1。

7.根據權利要求3-5中任意一個所述的對準系統，其特征在于：所述偏折器為楔板組結構、微透鏡陣列或反射鏡組合。

8.根據權利要求1所述的對準系統，其特征在于：所述光強信號僅采用與被照射標記線寬、方向均一致的參考子光柵上獲得的信號。