[發(fā)明專利]一種多光源的干涉曝光裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110394349.4 | 申請日： | 2011-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN103135358A | 公開（公告）日： | 2013-06-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 聞人青青 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G02B27/10;G02B27/44 |
| 代理公司： | 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光輝 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 光源 干涉 曝光 裝置 | ||
1.一種多光源的干涉曝光裝置，沿光傳播方向依序包括：
照明單元，包括多個激光光源，多個所述激光光源分別產(chǎn)生一相干光束；
并光單元，將多個所述激光光源發(fā)出的多束相干光束進行拼接；以及
干涉單元，將經(jīng)所述并光單元拼接后的多束相干光束出射到所述干涉曝光裝置的焦平面分別干涉成像，形成拼接干涉圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉曝光裝置，其特征在于：還包括衍射單元，設(shè)置在所述并光單元與干涉單元之間，用以將所述并光單元合并的光束進行衍射后出射至所述干涉單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干涉曝光裝置，其特征在于：所述衍射單元為衍射光柵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉曝光裝置，其特征在于：所述并光單元由兩個雙光楔棱鏡組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉曝光裝置，其特征在于：通過調(diào)整所述雙光楔棱鏡之間的距離，調(diào)整光束的拼接精度。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉曝光裝置，其特征在于：所述干涉單元為菱形棱鏡或梯形棱鏡。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉曝光裝置，其特征在于：所述并光單元由一個雙光楔棱鏡組成，所述干涉單元為多邊形棱鏡。
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