[發(fā)明專利]機(jī)匣處理系統(tǒng)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110393788.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103133391A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李鋼;楊凌元;聶超群;朱俊強(qiáng);徐燕驥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院工程熱物理研究所 |
| 主分類號(hào): | F04D29/00 | 分類號(hào): | F04D29/00;F15D1/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 周國(guó)城 |
| 地址: | 100190 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 系統(tǒng) | ||
1.一種機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,包括:
至少一個(gè)等離子體激勵(lì)器,以非軸對(duì)稱方式布置在壓氣機(jī)機(jī)匣外圍,壓氣機(jī)機(jī)匣內(nèi)側(cè)動(dòng)葉的上方,用于產(chǎn)生等離子體,加速其附近的空氣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,所述等離子體激勵(lì)器的數(shù)目為n,其中,1≤n≤100。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,
n=1,所述1個(gè)等離子體激勵(lì)器包圍壓氣機(jī)機(jī)匣的角度小于360°;或
2≤n≤100,所述n個(gè)等離子體激勵(lì)器兩兩之間有缺口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,所述等離子體激勵(lì)器包括:
絕緣層,以非軸對(duì)稱方式布置在壓氣機(jī)機(jī)匣外圍;
至少一條掩埋電極,掩埋于所述絕緣層外側(cè),與高壓電源中高壓端或接地端中的一端相連接;
至少一條裸露電極,裸露于所述絕緣層內(nèi)側(cè),與高壓電源中與所述一端相對(duì)應(yīng)的另一端相連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,所述絕緣層的材料為聚四氟乙烯、電木、陶瓷或石英玻璃;所述掩埋電極和裸露電極的材料為銅、鉬或鎢。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,
所述掩埋電極和裸露電極寬度為1~50mm,裸露電極和掩埋電極的水平方向間距為0~10mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,當(dāng)所述裸露電極有多條時(shí),裸露電極和裸露電極之間的間距為1~100mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,對(duì)于所述高壓電源的高壓端,電壓為1-30kV,頻率為100-500kHz。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,所述的等離子體激勵(lì)器布置方式為周向電極、軸向電極、曲折電極,或者是這些方式的組合。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,還包括:
入口流量測(cè)量裝置,設(shè)置于所述壓氣機(jī)的氣流入口,用于測(cè)量氣流的入口流量;
出口壓力測(cè)量裝置,設(shè)置于所述壓氣機(jī)的氣流出口,用于測(cè)量氣流的出口壓力;
壓氣機(jī)轉(zhuǎn)速測(cè)量裝置,用于測(cè)量所述壓氣機(jī)的轉(zhuǎn)速;
高壓交流電源,與所述等離子體激勵(lì)器相連接,用于為所述等離子體激勵(lì)器提供能量;
數(shù)據(jù)采集與控制裝置,用于預(yù)存不同轉(zhuǎn)速下所述壓氣機(jī)的特征曲線;由所述入口流量、出口壓力和所述壓氣機(jī)轉(zhuǎn)速和特征曲線,判斷所述壓氣機(jī)的狀態(tài),如果所述壓氣機(jī)出現(xiàn)失速,控制所述高壓交流電源為所述等離子體激勵(lì)器提供的激勵(lì)電壓。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的機(jī)匣處理系統(tǒng),其特征在于,還包括壁面測(cè)溫裝置;
所述壁面測(cè)溫裝置,設(shè)置于所述等離子體激勵(lì)器下游,用于測(cè)量壓氣機(jī)機(jī)匣的壁面溫度;
所述數(shù)據(jù)采集與控制裝置,與所述壁面測(cè)溫裝置相連接,還用于根據(jù)所述壓氣機(jī)機(jī)匣的壁面溫度與預(yù)設(shè)溫度的關(guān)系,降低/升高所述高壓交流電源為所述等離子體激勵(lì)器提供的激勵(lì)電壓。
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