[發明專利]一種相位移焦距檢測光罩及制造方法及檢測焦距差的方法有效
| 申請號： | 201110392792.8 | 申請日： | 2011-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN102519521A | 公開（公告）日： | 2012-06-27 |
| 發明（設計）人： | 李文亮;吳鵬 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G01F1/44 | 分類號： | G01F1/44;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 李琳;張龍哺 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 相位 焦距 檢測 制造 方法 | ||
1.一種相位移焦距檢測光罩，包括：
遮蔽層，包括具有一定寬度的多個透光區域；
玻璃層，位于所述遮蔽層上方，并具有與所述多個透光區域連通且對應的多個開口，
其中所述多個開口的寬度為所述多個透光區域的寬度的一半，深度為n*λ/(N-1)，λ為入射到所述相位移焦距檢測光罩的光在空氣中的波長，N為所述玻璃層的折射率，n為正整數。
2.根據權利要求1所述的相位移焦距檢測光罩，其中所述遮蔽層為鉻層。
3.根據權利要求1所述的相位移焦距檢測光罩，其中所述多個透光區域的個數大于等于4。
4.一種相位移焦距檢測光罩的制造方法，包括：
在遮蔽層中分別蝕刻具有一定寬度的多個透光區域；
于所述多個透光區域處，在所述遮蔽層上方的玻璃層中蝕刻多個開口，
其中所述多個開口的寬度為所述多個透光區域的寬度的一半，深度為n*λ/(N-1)，λ為入射到所述相位移焦距檢測光罩的光在空氣中的波長，N為所述玻璃層的折射率，n為正整數。
5.一種使用權利要求1所述的相位移焦距檢測光罩檢測光刻機的焦距差的方法，包括：
a.用光刻機在不同焦距下將所述相位移焦距檢測光罩在晶片上曝光，以在所述晶片上形成與各焦距對應的溝槽測量標記；
b.用套刻精度測量機臺測量出的所述溝槽測量標記的內外框中心的偏移量進行建模；
c.根據建模結果和所述溝槽測量標記的內外框中心的偏移量計算所述光刻機的焦距差。
6.根據權利要求5所述的檢測焦距差的方法，其中所述建模包括：確定所述溝槽測量標記的內外框中心的偏移量和不同焦距的對應線性關系。
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