[發(fā)明專利]一種相位移焦距檢測光罩及制造方法及檢測焦距差的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110392792.8
• 申請日: 2011-11-30
• 公開（公告）號(hào): CN102519521A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李文亮;吳鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): G01F1/44
• 分類號(hào): G01F1/44;G03F7/20
• 代理公司: 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 李琳;張龍哺

1.一種相位移焦距檢測光罩，包括：

遮蔽層，包括具有一定寬度的多個(gè)透光區(qū)域；

玻璃層，位于所述遮蔽層上方，并具有與所述多個(gè)透光區(qū)域連通且對應(yīng)的多個(gè)開口，

其中所述多個(gè)開口的寬度為所述多個(gè)透光區(qū)域的寬度的一半，深度為n*λ/(N-1)，λ為入射到所述相位移焦距檢測光罩的光在空氣中的波長，N為所述玻璃層的折射率，n為正整數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位移焦距檢測光罩，其中所述遮蔽層為鉻層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位移焦距檢測光罩，其中所述多個(gè)透光區(qū)域的個(gè)數(shù)大于等于4。

4.一種相位移焦距檢測光罩的制造方法，包括：

在遮蔽層中分別蝕刻具有一定寬度的多個(gè)透光區(qū)域；

于所述多個(gè)透光區(qū)域處，在所述遮蔽層上方的玻璃層中蝕刻多個(gè)開口，

其中所述多個(gè)開口的寬度為所述多個(gè)透光區(qū)域的寬度的一半，深度為n*λ/(N-1)，λ為入射到所述相位移焦距檢測光罩的光在空氣中的波長，N為所述玻璃層的折射率，n為正整數(shù)。

5.一種使用權(quán)利要求1所述的相位移焦距檢測光罩檢測光刻機(jī)的焦距差的方法，包括：

a.用光刻機(jī)在不同焦距下將所述相位移焦距檢測光罩在晶片上曝光，以在所述晶片上形成與各焦距對應(yīng)的溝槽測量標(biāo)記；

b.用套刻精度測量機(jī)臺(tái)測量出的所述溝槽測量標(biāo)記的內(nèi)外框中心的偏移量進(jìn)行建模；

c.根據(jù)建模結(jié)果和所述溝槽測量標(biāo)記的內(nèi)外框中心的偏移量計(jì)算所述光刻機(jī)的焦距差。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測焦距差的方法，其中所述建模包括：確定所述溝槽測量標(biāo)記的內(nèi)外框中心的偏移量和不同焦距的對應(yīng)線性關(guān)系。