[發(fā)明專利]間歇涂布裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110392725.6 | 申請日: | 2011-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN102580886A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 森川亮;三浦秀宣;中島裕之;安田芳章;磯崎徹 | 申請(專利權(quán))人: | 富士機械工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | B05C1/08 | 分類號: | B05C1/08;B05C11/10;B05C13/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 雒運樸 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 間歇 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及間歇涂布裝置,該裝置通過使沿搬送路徑被搬送的基材斷續(xù)地接觸涂布輥而將涂布劑間歇地涂布在該基材上。
背景技術(shù)
如日本專利公開公報特開2009-90274號(專利文獻1)所示,以往的對被連續(xù)搬送的帶狀支持體(基材)間歇地涂布涂布液的間歇涂布方法中,通過凸輪機構(gòu)使上述支持體的下表面與基于轉(zhuǎn)動而從涂布液積聚部中連帶上述涂布液的涂布用圓柱體(涂布輥)的周面相對地接離,從而在上述支持體的下表面上形成涂布有涂布液的涂布部分和沒有涂布涂布液的非涂布部分。
另外,已知有如日本專利公開公報特開平10-43659號(專利文獻2)所示的間歇涂布裝置,該裝置中,在與媒介物(基材)的涂布面相對設置的模體(die)中設有多個包括供應涂布液的涂布液積聚部和吐出涂布液的狹縫的涂布機構(gòu),通過依次驅(qū)動該涂布機構(gòu)而將涂布液間歇地涂布到沿上述模體連續(xù)地被供給的媒介物上,以形成一定寬度且一定長度的涂布圖案。
上述專利文獻1所公開的間歇涂布裝置中,通過凸輪機構(gòu)使基材的下表面與涂布輥的周面相對地接離,從而將涂布液按一定的間隔間歇涂布到被連續(xù)地搬送的基材上,因此,當相鄰接的涂布液層之間形成的非涂布部的寬度尺寸較短時,必須使涂布輥高速地進退來進行驅(qū)動以使該涂布輥反復地與基材接離。因此會產(chǎn)生以下問題:如果不將上述基材的搬送速度控制在一定值以下,則難以將涂布液正確地涂布到基材上的所需部位,從而難以提高生產(chǎn)率。
另一方面,上述專利文獻2所示的模式涂布方法中,由于采用了對涂布液積聚部內(nèi)的涂布液施加壓力以使涂布液從狹縫吐出從而涂布到基材上且以指定時期切斷施加于涂布液的壓力以停止涂布液的吐出來進行上述涂布液的間歇涂布的結(jié)構(gòu),因而無需移動具有指定重量的模體主體,因此,無需降低基材的搬送速度即可將涂布液涂布到所需部位。
上述模式涂布方法適合于形成10μm以上的比較厚壁的涂膜。另外,涂布嘴與被涂布面之間的距離對涂布厚度產(chǎn)生較大的影響。然而,上述模式涂布方法在結(jié)構(gòu)上難以在例如形成在電池用負極板上的多孔性保護膜那樣的具有立體圖案的被涂布面上形成具有10μm以下膜厚的涂布劑層。因此,便希望通過將涂布涂布液到基材而形成的涂布劑層的厚度控制在一定值以下而且能夠?qū)⑼坎家壕鶆蚯艺_地涂布到基材上。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問題而作,其目的在于提供一種能夠?qū)⑼坎紕┚鶆蚯艺_地涂布到被高速搬送的基材的所需部位上的間歇涂布裝置。
本發(fā)明的間歇涂布裝置,通過使沿搬送路徑被搬送的基材斷續(xù)地接觸涂布輥而將該涂布劑間歇地涂布在基材上,其包括:導輥,設置在沿所述基材的搬送路徑設置的多個涂布輥的近傍位置,限制所述基材的搬送方向;驅(qū)動機構(gòu),驅(qū)動所述導輥,使所述基材個別地接觸或離開所述涂布輥,以將涂布劑分別涂布到所述基材的不同的區(qū)域。
根據(jù)該結(jié)構(gòu),由于由沿基材的搬送路徑設置的多個涂布輥將涂布劑分別涂布到基材的不同的區(qū)域上,因此,即使在相鄰的涂布劑的涂布區(qū)域之間所形成的非涂布部的長度尺寸較短的情況下,也無需如采用由單一的涂布輥按一定的間隔將涂布劑涂布到基材上的結(jié)構(gòu)的以往的涂布裝置那樣使所述涂布輥高速地位移等來頻繁地重復接觸及離開基材的動作,能夠?qū)⑼坎驾伒囊苿铀俣瓤刂圃谝欢ㄖ狄韵拢⑶艺_地將涂布劑涂布到以指定速度被搬送的上述基材的所需位置上。在該結(jié)構(gòu)中,所述驅(qū)動機構(gòu)通過驅(qū)動所述導輥,使所述基材個別地接觸或離開所述涂布輥,以將涂布劑分別涂布到所述基材的不同的區(qū)域。但是,所述驅(qū)動機構(gòu)當然也可以通過驅(qū)動所述導輥,使所述基材接觸或離開所述涂布輥,以將涂布劑涂布到所述基材的不同的區(qū)域。
上述間歇涂布裝置中,進一步理想的是:按預先設定的順序使所述基材交替地接觸所述多個涂布輥。
根據(jù)該結(jié)構(gòu),由于按預先設定的順序使基材交替地接觸所述多個涂布輥,因此,能夠抑制涂布輥接觸基材時產(chǎn)生的張力變動,并且能夠使涂布劑被間歇地涂布在基材的表面上的涂布劑層正確地形成。
上述間歇涂布裝置中,進一步理想的是:所述涂布輥的數(shù)量為兩個,這兩個涂布輥的沿搬送路徑的設置間隔為涂布劑被間歇地涂布在所述基材上的一個涂布區(qū)域的全長加上一個非涂布區(qū)域的長度的值的偶數(shù)倍。
根據(jù)該結(jié)構(gòu),由于兩個涂布輥的沿搬送路徑的設置間隔為涂布劑被間歇地涂布在基材上的一個涂布區(qū)域的全長加上一個非涂布區(qū)域的長度的值的偶數(shù)倍,因此,通過在使所述兩個涂布輥中的一者接觸基材的同時使該兩個涂布輥中的另一者離開基材,能夠有效地抑制基材的張力變動,并且能夠使涂布劑被間歇地涂布在基材的表面上的涂布劑層正確地形成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士機械工業(yè)株式會社,未經(jīng)富士機械工業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110392725.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





