[發(fā)明專利]遮光元件加工裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110391726.9 | 申請(qǐng)日: | 2011-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103135264B | 公開(公告)日: | 2016-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉健;朱敬峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海中航光電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13 | 分類號(hào): | G02F1/13;G02F1/1333;G02B5/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201108 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 遮光 元件 加工 裝置 | ||
1.一種液晶顯示裝置,包括:相對(duì)設(shè)置的上基板和下基板,設(shè)置于所述下基板下方的背光模組,以及設(shè)置于所述上基板、下基板以及背光模組外側(cè)的外框,其特征在于,還包括設(shè)置于所述上基板和下基板側(cè)邊的遮光元件,以消除所述液晶顯示裝置的邊緣漏光。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述遮光元件位于所述上基板和下基板的左右兩側(cè)。
3.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述遮光元件位于所述上基板和下基板的一側(cè)。
4.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述遮光元件為黑色油墨、遮光膠帶、金屬或金屬氧化物中的一種或多種。
5.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述液晶顯示裝置還包括設(shè)置于所述上基板上方的上偏光片以及設(shè)置于下基板下方的下偏光片。
6.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述液晶顯示裝置還包括設(shè)置于所述背光模組和下基板之間的遮光膠帶。
7.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述外框還包括一延伸部,所述延伸部位于所述上基板邊緣區(qū)域的上方,所述延伸部與所述上基板之間具有空隙。
8.如權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述液晶顯示裝置還包括設(shè)置于所述延伸部和上基板之間的延伸遮光元件。
9.一種液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,包括:將所述上基板和下基板對(duì)盒;以及在所述上基板和下基板側(cè)邊形成遮光元件。
10.如權(quán)利要求9所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,在所述上基板和下基板側(cè)邊形成遮光元件之前,在所述上基板上形成上偏光片,并在所述下基板上形成下偏光片。
11.如權(quán)利要求10所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,在所述上基板和下基板側(cè)邊形成遮光元件之后,進(jìn)行偏光片除泡工藝。
12.一種遮光元件加工裝置,用于在上基板和下基板側(cè)邊形成遮光元件,其特征在于,包括:傳送帶,設(shè)置于所述傳送帶上的擋板軌道,以及設(shè)置于所述擋板軌道側(cè)邊的涂敷裝置。
13.如權(quán)利要求12所述的遮光元件加工裝置,其特征在于,所述涂敷裝置包括滾輪以及用于支撐所述滾輪的支架。
14.如權(quán)利要求12所述的遮光元件加工裝置,其特征在于,所述遮光元件加工裝置還包括設(shè)置于所述傳送帶上方的風(fēng)干裝置。
15.如權(quán)利要求12所述的遮光元件加工裝置,其特征在于,所述遮光元件加工裝置具有兩個(gè)涂敷裝置,分別位于所述擋板軌道的兩側(cè)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海中航光電子有限公司,未經(jīng)上海中航光電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110391726.9/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





