[發明專利]直立式電漿產生裝置

無效

• 申請號: 201110391414.8
• 申請日: 2011-11-30
• 公開（公告）號: CN103140011A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 李炳寰;楊主見;葉昌鑫;黃俊凱;林佳昇
• 申請（專利權）人: 亞樹科技股份有限公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46;H01L31/18
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 王晶

1.一種直立式電漿產生裝置，其特征在于，包括：

一第一腔體，該第一腔體的外表面電性地接地，且具有一第一進氣口及第一出氣口，其中第一進氣口用以通入制程氣體，第一出氣口用以排出制程氣體；

至少兩個第二腔體，配置于第一腔體的內部，每個第二腔體皆具有一第二進氣口及一第二出氣口，其中第二進氣口由第一進氣口引入制程氣體，第二出氣口由第一出氣口排出制程氣體；

至少兩個電極板，配置于至少兩個第二腔體的內部，用以呈載一制程基板；

至少一射頻電流源，設置于腔體外部，電性連接至少兩個電極板，用以提供一射頻電流以產生電漿于第二腔體內；以及

至少兩個接地單元，用以電性連接第一腔體及第二腔體；

其中，第二腔體的外表面至少有一組以上的接地單元，用以電性連接至第一腔體。

2.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述直立式電漿產生裝置更包含一真空源，設置于腔體外部，與腔體有一管路連接，通過該管路用以將腔體內部的氣體抽出，并可控制腔體的壓力值位于0.5-760托耳(Torr)之間。

3.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述些電極板的面積介于864cm2至50400cm2之間。

4.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述射頻電流源具有至少兩組不同頻率的射頻功率以對應于所述電極板。

5.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述射頻電流源提供的射頻電流的頻率在10至150MHz之間。

6.根據權利要求5所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述射頻電流源所提供的射頻電流的頻率為40.68MHz。

7.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，還包含至少一阻抗匹配器，電性連接于射頻電流源與所述電極板之間。

8.根據權利要求7所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述阻抗匹配器、射頻電流源與該電極板間的電性連接由使用一射頻傳輸線所達成，且該射頻傳輸線的阻抗為50奧姆。

9.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述接地單元的間距超過射頻電流源所提供的射頻電流的一對應波長的二十分之一，其中對應波長定義為光速除以射頻電流的頻率。

10.根據權利要求1所述的直立式電漿產生裝置，其特征在于，所述第一腔體、第二腔體、電極板、接地單元的材質選自：鎳、金、銀、鈦、銅、鈀、不銹鋼、鈹銅合金、鋁、被覆鋁及其組合所構成的群組。