[發明專利]一種離子注入機自動建立源高真空的方法

無效

• 申請號: 201110390452.1
• 申請日: 2011-11-25
• 公開（公告）號: CN103137411A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 楊亞兵
• 申請（專利權）人: 北京中科信電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/302
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種離子注入機自動建立源高真空的方法，包括：檢測源腔體是否高真空狀態(1)、源高真空未建立(2)、檢測通信和水電氣是否正常(3)、關閉源氮氣閥V50、源與束線的隔離閥V51、束線與靶室粗抽閥V53和源粗抽閥V46(4)、開啟源干泵RP3(5)、源干泵RP3已啟動完成，開啟源粗抽閥V46(6)、源低規G15真空值低于1時開啟源分子泵TP1(7)、源分子泵TP1加速完成(8)、源高規IG1除氣(9)、除氣完成并開啟顯示源的真空值(10)、源高真空建立成功(11)、狀態錯誤(12)、提示錯誤進入手動模式(13)、源高真空建立失敗(14)。

2.如權利要求1所述的一種離子注入機自動建立源高真空的方法，其特征在于：制定了一個系統全面的流程，根據設備當前不同的狀態，進入不同的流程判斷，滿足相應條件后才能進入下一個階段，能夠安全快速地自動建立源高真空。

3.如權利要求1所述的一種離子注入機自動建立源高真空的方法，其特征在于：每個過程階段都有相應的條件判斷，把設備可能出現的狀態，全部都考慮了進去，避免了因考慮不周全，存有漏洞，而造成對設備的損壞。

4.如權利要求1所述的一種離子注入機自動建立源高真空的方法，其特征在于：自動過程中如果出現狀態錯誤(12)的問題，會提示錯誤進入手動模式(13)，自動建立源高真空終止，只有再次啟動自動建立源高真空，才能進入自動流程模式，這樣設計的目的：一是保護設備；二是這種情況大部分非軟件問題，一般是硬件、結構等其他問題，讓用戶手動處理，可以節約時間，提高效率。