[發明專利]手寫輸入美化的方法和裝置

有效

• 申請號: 201110388171.2
• 申請日: 2011-11-29
• 公開（公告）號: CN103135915A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 羅振波;陳又新;王炎
• 申請（專利權）人: 北京三星通信技術研究有限公司;三星電子株式會社
• 主分類號: G06F3/0488
• 分類號: G06F3/0488;G06T11/80
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 鄭瑜生

1.一種手寫輸入美化的方法，其特征在于，包括：

采集用戶輸入的筆跡數據；

對所述筆跡數據進行分析，得到筆跡信息，根據所述筆跡信息，確定相應的筆頭模型，利用所述筆頭模型對用戶筆跡進行美化；

將美化后的筆跡輸出。

2.如權利要求1所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，還包括：根據所述筆跡信息，對所述筆頭模型做變形。

3.如權利要求2所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，對所述筆頭模型做變形包括以下一種或多種方式：

根據用戶筆跡的寬度或壓力分布，對筆頭模型做放大或縮小；

根據用戶筆跡的插值，對筆頭模型做平移；

根據用戶筆跡的方向，對筆頭模型做旋轉；

根據用戶筆跡的方向，對筆頭模型做特定方向的投影。

4.如權利要求1所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，利用所述筆頭模型對用戶筆跡進行美化包括：

將變形后的筆頭模型平移到筆跡對應的軌跡上，并覆蓋所述筆跡。

5.如權利要求4所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，將美化后的筆跡輸出包括，將美化后的筆跡渲染輸出：

當筆頭模型為由至少一個樣條曲線或直線段組成的封閉輪廓，則用渲染算法填充美化結果中的封閉輪廓；

當筆頭模型為由至少一個樣條曲線或直線段圍成的封閉范圍內的點陣，則用渲染算法渲染美化結果中的點陣。

6.如權利要求1所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，用戶輸入的筆跡數據包括：

用戶筆跡x軸和y軸的坐標數據，和/或

用戶筆跡的壓力數據信息。

7.如權利要求1所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，對所述筆跡數據進行分析包括以下一種或多種方式：

計算用戶筆跡運行的速度；

計算用戶筆跡運行的加速度；

計算用戶筆跡運行的方向；

計算用戶筆跡的插值；

計算用戶筆跡的壓力分布；

計算用戶筆跡的寬度。

8.如權利要求7所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，計算用戶筆跡運行的速度包括：利用采樣點距離除以采樣時間間隔得到。

9.如權利要求7所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，計算用戶筆跡運行的加速度包括：利用采樣點的用戶筆跡速度差值，除以采樣點的采樣時間間隔得到。

10.如權利要求7所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，計算用戶筆跡運行的方向包括：計算采樣點x軸坐標差值和y軸坐標差值，以所述差值表示筆跡運行方向。

11.如權利要求7所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，計算用戶筆跡的插值包括以下步驟：

當連續兩個采樣點物理距離小于T時，不進行插值；

當連續兩個采樣點物理距離大于T，則以連續兩個采樣點為端點做線性插值、樣條曲線插值或者多項式插值；其中T為預定門限值，T＞0。

12.如權利要求7所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，計算用戶筆跡的壓力分布包括：

當連續兩個采樣點物理距離小于設定閾值T2，則兩個采樣點之間的壓力分布為均勻分布；

當連續兩個采樣點物理距離大于T2，則根據連續兩個采樣點的壓力值信息，通過線性插值、樣條曲線插值或者多項式插值計算兩個采樣點之間的壓力分布；其中T2為預定門限值，T2＞0。

13.如權利要求7所述的手寫輸入美化的方法，其特征在于，計算用戶筆跡的寬度包括以下步驟：

用戶輸入至少一個點時，根據輸入的寬度對所述用戶的筆跡的參照寬度賦初始值；

當所述筆跡速度變大，用戶筆跡寬度等于參照寬度減去步長值D1，其中D1＞0；

當所述筆跡速度變小，用戶筆跡寬度等于參照寬度加上步長值D2，其中D2＞0；

當所述筆跡速度不變，用戶筆跡寬度等于所述參照寬度。