[發明專利]掩膜板缺陷檢測裝置

無效

• 申請號: 201110387737.X
• 申請日: 2011-11-28
• 公開（公告）號: CN102519968A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 朱駿;張旭昇
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 吳世華;張龍哺

1.一種掩膜板缺陷檢測裝置，包括：

光源投射裝置，包括光源和透鏡，該光源用于發出光束并經透鏡投射到掩膜板上；

檢測系統，包括多個光強檢測器，用于測算掩膜板對該光束的反射率和透射率中的至少一個，并與預先建立的檢測基準作比較。

2.如權利要求1所述的掩膜板缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光強檢測器為三個，分別為第一、第二、第三光強檢測器，所述光源投射裝置還包括一個分光鏡，位于該光束入射光路上，該分光鏡將光束分出一部分，所述第一光強檢測器位于該分光鏡分出光束的光路上，所述第二、第三光強檢測器分別位于剩余部分光束入射到掩膜板后的反射光路和透射光路上。

3.如權利要求1至2中任一項所述的掩膜板缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源投射裝置還包括一個入射角度調節機構，用于調節光束的入射角度。

4.如權利要求1所述的掩膜板缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源為可調諧激光器發出的激光。

5.如權利要求4所述的掩膜板缺陷檢測裝置，其特征在于，所述可調諧激光器發出的激光波長為157nm、193nm、248nm或257nm。

6.如權利要求1所述的掩膜板缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源為鹵素光源。

7.如權利要求6所述的掩膜板缺陷檢測裝置，其特征在于，所述鹵素光源發出的光束通過濾光片調整波長范圍為120nm至800nm。