[發明專利]透明導電膜及其制造方法、電子裝置

有效

• 申請號: 201110386140.3
• 申請日: 2011-11-30
• 公開（公告）號: CN103137245A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 賴思維
• 申請（專利權）人: 群康科技(深圳)有限公司;奇美電子股份有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

技術領域

本發明涉及一種導電膜及及其制造方法、電子裝置，且特別是涉及一種透明導電膜及應用它的電子裝置。

背景技術

隨著顯示技術及觸控技術的進步，各式顯示裝置及觸控裝置不斷推陳出新。為了達到良好的畫面顯示效果，顯示裝置及觸控裝置通常會采用透明導電膜來作為驅動電極或參考電極。

在廣泛應用透明導電膜的同時，研究人員發現透明導電膜經常會產生反光或炫光的現象，造成使用者觀看畫面的不舒服，嚴重影響產品的品質。

因此，如何研發出一種透明導電膜，使其具有抗反射或防炫光的效果，實為目前技術發展的重要方向。

發明內容

本發明涉及一種透明導電膜及應用它的電子裝置，其利用多孔性介電層來降低全反射比率并使外界光線散射，使得透明導電膜具有抗反射或防炫光的效果。

根據本發明的一方面，提出一種透明導電膜。透明導電膜包括導電層及多孔性介電層(porous?dielectric?layer)。多孔性介電層設置于導電層上。

根據本發明的另一方面，提出一種電子裝置。電子裝置包括第一基板、透明導電膜及第二基板。透明導電膜設置于第一基板上。透明導電膜包括導電層及多孔性介電層(porous?dielectric?layer)。多孔性介電層設置于導電層上。第二基板平行于第一基板。

為讓本發明的上述內容能更明顯易懂，下文特舉優選實施例，并配合附圖，作詳細說明如下：

附圖說明

圖1繪示第一實施例的透明導電膜的示意圖。

圖2繪示多孔性介電層的立體圖。

圖3A～3D繪示透明導電膜的制造方法的流程圖。

圖4繪示第二實施例的透明導電膜的示意圖。

圖5繪示第三實施例的透明導電膜的示意圖。

圖6繪示第四實施例的電子裝置的示意圖。

圖7繪示第五實施例的電子裝置的示意圖。

圖8繪示第六實施例的電子裝置的示意圖。

附圖標記說明

100、200、300、4200、5200、5400、6200：透明導電膜

110、210、310、4210、5210、5410、6210：導電層

120、220、320、4220、5220、5420、6220：多孔性介電層

120’：金屬層

121：空心孔

130、230、330：基板

222：團聚塊

4000、5000、6000：電子裝置

4100、5100、6100：第一基板

4300、5300、6300：第二基板

4410、4420：透明感應膜

4500、5500：保護板

6400：像素電極膜

6500：電泳結構層

6600：保護層

6700：透明光學膠

D120：厚度

D222：直徑

G：間隙

具體實施方式

以下提出實施例進行詳細說明，其利用多孔性介電層來降低全反射比率并使外界光線散射，使得透明導電膜具有抗反射或防炫光的效果。然而，實施例僅用以作為范例說明，并不會限制本發明欲保護的范圍。此外，實施例中的附圖省略部分元件，以清楚顯示本發明的技術特點。

第一實施例

請參照圖1～2，圖1繪示第一實施例的透明導電膜100的示意圖，圖2繪示多孔性介電層(porous?dielectric?layer)120的立體圖。透明導電膜100包括導電層110及多孔性介電層120。導電層110為透明狀且具有導電性，例如是銦錫氧化物(indium?tin?oxide，ITO)或銦鋅氧化物(indium?zinc?oxide，IZO)。此類型的導電層110可應用于顯示面板及觸控面板。

多孔性介電層120設置于導電層110上，多孔性介電層120的材料例如是氧化鋁。多孔性介電層120具有多個空心孔121，該多個空心孔121可以是不規則分布或者是規則分布的。

氧化鋁的折射率為1.76，空心孔121內的空氣的折射率為1.0，因此多孔性介電層120的等效折射率將介于1.0至1.76之間。調整多孔性介電層120的空心孔121的數量或大小可以調整多孔性介電層120的等效折射率。