[發明專利]基于柔性襯底的聲表面波器件的結構及其制造方法

無效

• 申請號: 201110386108.5
• 申請日: 2011-11-29
• 公開（公告）號: CN102420582A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 周劍;余德永;金浩;王德苗;馮斌
• 申請（專利權）人: 浙江大學;浙江百士迪科技有限公司
• 主分類號: H03H9/145
• 分類號: H03H9/145;H03H3/08
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所 33213
• 代理人: 吳秉中

1.一種基于柔性襯底的聲表面波器件結構，包括：襯底、底電極層、壓電層、頂電極層，工作區由底電極層、壓電層、頂電極層構成，其特征在于，所述的底電極層的下方設置有柔性襯底，柔性襯底上設置有開口。

2.根據權利要求1所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構，其特征在于，所述的柔性襯底為：聚脂、聚酰亞胺、液晶聚合物、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲醛、聚丙烯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂、聚乙烯對苯二甲酯、聚丙烯己二酯、聚四氟乙烯、丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚物、聚砜、尼龍中的任一種有機材料制備的薄膜，其厚度為5～250?μm。

3.根據權利要求1所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構，其特征在于，所述的底電極層至少為：鋁、金、銀、銅、鐵、鉑、鈦、鎳、鉻、鎢、鉬、鋅、鈷、鋯、鈮中的一種金屬材料制成的薄膜，該薄膜的厚度為10～500?nm。

4.根據權利要求1所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構，其特征在于，所述的壓電層至少為：氧化鋅、氮化鋁、鋯鈦酸鉛中的一種壓電薄膜，其厚度為0.5～10?μm。

5.根據權利要求1所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構，其特征在于，所述的壓電層至少為氧化鋅、氮化鋁、鋯鈦酸鉛中的兩種材料組合的復合膜層，厚度為0.5～10?μm。

6.根據權利要求1所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構，其特征在于，所述的頂電極層由叉指換能器和反射柵組成，叉指換能器厚度為20～500?nm，反射柵厚度為20～500?nm。

7.一種基于柔性襯底的聲表面波器件結構的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

制備柔性襯底，采用物理、化學方法合成柔性襯底薄膜；

制備底電極層：采用磁控濺射或者蒸發方法中的一種方法直接在柔性襯底上制備底電極層；?

制備壓電層：采用低溫物理沉積方法或低溫化學沉積方法中的一種方法直接在柔性襯底上制備壓電層；?

制備頂電極層：在上述壓電層上，經過沉積金屬電極、光刻、刻蝕，或光刻、沉積金屬電極、剝離工藝形成所需電極層；

⑤背面刻蝕襯底：采用干法刻蝕方法，對柔性襯底進行背面體深刻蝕，使得底電極層的下表面能夠與空氣直接接觸。

8.根據權利要求7所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構的制造方法，其特征在于，所述的頂電極層是經過沉積金屬、表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測工藝流程制備。

9.根據權利要求7所述的基于柔性襯底的聲表面波器件結構的制造方法，其特征在于，所述的頂電極層是經過表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、沉積金屬、剝離工藝流程制備。