[發(fā)明專利]一種測試光刻機遮光擋板的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110385575.6 | 申請日： | 2011-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN102445859A | 公開（公告）日： | 2012-05-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱駿;陳力鈞;鄭剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F1/44 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 測試 光刻 遮光 擋板 方法 | ||
1.一種測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S1：完成標(biāo)準(zhǔn)的掩模板遮光板測試后，確認(rèn)掩模板遮光板已達(dá)到基本精度要求；
步驟S2：在一測試掩模板上至少設(shè)置一測試圖像，該測試圖像由測試圖形線條和測試圖形線條間隙組成；
步驟S3：采用步驟S2中設(shè)置有測試圖形的測試掩模板進行曝光顯影；
步驟S4：利用缺陷檢測設(shè)備測試遮光板是否存在問題。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，所述測試研磨板為二元掩模板或移相掩模板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，所述測試圖形線條為矩形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，所述測試圖形線條尺寸為10-5000nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，測試圖形線條尺寸與測試圖形線條間隙尺寸比率為2:1、1:1、1:2、1:3、1:4或1:5。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，測試圖形線條尺寸與測試圖形線條間隙尺寸比率為1:1時，所述測試圖形線條一邊長為0-26nm，鄰邊長為0-33nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試光刻機遮光擋板的方法，其特征在于，所述測試掩模板上的測試圖形線條圖形是高度重復(fù)圖形，能夠靈敏的反饋遮光板的制造缺陷或漏光問題。
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