[發明專利]發光模塊

無效

• 申請號: 201110382846.2
• 申請日: 2011-11-25
• 公開（公告）號: CN102425745A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發明（設計）人: 葉鈞皓
• 申請（專利權）人: 上海向隆電子科技有限公司
• 主分類號: F21S8/00
• 分類號: F21S8/00;F21V8/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 胡美強

1.一種發光模塊，包括：一第一光源；以及一導光板；其特征在于：所述的導光板包括：

一出光面；該出光面包括多個線性立體單元相互平行且間隔地配置于該出光面上；

一反射面；該反射面與該出光面相互對立；

一第一入光面；該第一入光面介于該出光面及該反射面之間，該第一入光面平行每一該些線性立體單元，該第一光源朝該第一入光面發光；

多個第一立體單元群；該多個第一立體單元群分別一對一地位于該反射面對應此些線性立體單元之一垂直投影位置內，每一該些第一立體單元群包含多個相互平行之第一線性微結構，該些第一線性微結構皆平行該些線性立體單元；以及

一第二立體單元群；該第二立體單元群位于該反射面上除了該些第一立體單元群以外之其它區域，該第二立體單元群是由多個相互平行之第二線性微結構所組成，該些第二線性微結構皆平行該些線性立體單元，該些第二線性微結構于該反射面上之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著該些第二線性微結構分別與該第一入光面之距離大小成正比；該些第一線性微結構不同于該些第二線性微結構。

2.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第一立體單元群之該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一小于該些第二線性微結構之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一。

3.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于：該些線性立體單元之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同。

4.根據權利要求3所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同。

5.根據權利要求3所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著該些第一線性微結構分別與該第一入光面之距離大小成正比。

6.根據權利要求3所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是以位于中間地址之該一第一線性微結構分別朝其兩旁該些第一線性微結構之方向產生遞減。

7.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于：該些線性立體單元之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一是隨著該些線性立體單元分別與該第一入光面之距離大小成正比。

8.根據權利要求7所述的發光模塊，其特征在于：該些第二線性微結構于該反射面上之垂直落差是隨著該些第二線性微結構分別與該第一入光面之距離大小成正比。

9.根據權利要求7所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是以位于中間地址之該一第一線性微結構分別朝其兩旁之該些第一線性微結構之方向產生遞減。

10.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于還包括：一第二光源，且該導光板還包括：一第二入光面；該第二入光面相對該第一入光面，且該第二光源朝該第二入光面發光。

11.根據權利要求10所述的發光模塊，其特征在于：該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面及該第二入光面之長軸走向相互平行，且該些線性立體單元之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同，每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同，且每一該些第一立體單元群之該些第一線性微結構之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一小于該些第二線性微結構之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一。

12.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于：每一該些線性立體單元為一V型凹溝或U型凹溝。

13.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第一線性微結構為一V型凹溝或U型凹溝。

14.根據權利要求1所述的發光模塊，其特征在于：每一該些第二線性微結構為一V型凹溝或U型凹溝。