[發明專利]一種復合式磁控濺射陰極

有效

• 申請號: 201110379503.0
• 申請日: 2011-11-24
• 公開（公告）號: CN102420091A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 邱清泉;丁發柱;戴少濤;張志豐;古宏偉
• 申請（專利權）人: 中國科學院電工研究所
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 關玲

1.一種復合式磁控濺射陰極，其特征在于：所述的磁控濺射陰極由平面靶材(1)、水冷背板(2)、兩個外永磁體(3、4)、兩個內永磁體(5、6)、兩個外電磁線圈(7、8)、兩個內電磁線圈(9、10)、兩對外磁軛(11、12)、兩對內磁軛(13、14)、底磁軛(15)和框架(16)構成；水冷背板(2)緊密安裝在靶材(1)的下方；外永磁體(3、4)、內永磁體(5、6)安裝在水冷背板(2)下方；第一外磁軛(11)安裝在第一外永磁體(3)的下方，第二外磁軛(12)安裝于第二外永磁體(4)的下方，第一內磁軛(13)安裝于第一內永磁體(5)的下方，第二內磁軛(14)安裝于第二內永磁體(6)的下方；底磁軛(15)位于外磁軛和內磁軛下方；所述的外永磁體、內永磁體、外電磁線圈、內電磁線圈、外磁軛、內磁軛和底磁軛安裝在框架(16)中；所述的平面靶材(1)通過電源線連接到陰極電源；所述的兩個內電磁線圈(9、10)安裝在由外磁軛(11、12)、內磁軛(13、14)和底磁軛(15)包圍的空間中偏內的位置，外電磁線圈(7、8)安裝在由外磁軛(11、12)、內磁軛(13、14)和底磁軛(5)包圍的空間中偏外的位置；外永磁體(3、4)和內永磁體(5、6)產生磁控濺射陰極的主磁場，外電磁線圈(7、8)和內電磁線圈(9、10)產生磁控濺射陰極的輔助磁場。

2.如權利要求1所述的復合式磁控濺射陰極，其特征在于：所述的水冷背板(2)為非導磁材料制作、水冷背板(2)內盛有冷卻水。

3.如權利要求1所述的復合式磁控濺射陰極，其特征在于：所述的第一外永磁體(3)和第二外永磁體(4)以相同的極性安裝，第一內永磁體(5)和第二內永磁體(6)以相同的極性安裝，外永磁體和內永磁體的安裝極性相反。

4.如權利要求1所述的復合式磁控濺射陰極，其特征在于：外電磁線圈(7、8)為一閉合線圈，內電磁線圈(9、10)為一閉合線圈，外電磁線圈和內電磁線圈通過引線分別連接到電磁線圈供電電源；

5.如權利要求1所述的復合式磁控濺射陰極，其特征在于：所述的平面靶材(1)為金屬或合金或陶瓷靶材；所述的外磁軛(11、12)、內磁軛(13、14)、以及底磁軛(15)采用軟磁材料制作。

6.如權利要求4所述的復合式磁控濺射陰極，其特征在于：所述的外電磁線圈為跑道形或圓形結構。

7.如權利要求4所述的復合式磁控濺射陰極，其特征在于：所述的供電電源為直流電源或脈沖直流電源。