[發(fā)明專利]勻膠清洗裝置及勻膠清洗方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110378938.3
• 申請(qǐng)日: 2011-11-24
• 公開（公告）號(hào): CN102489464A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王友旺;林盛浩;裴新;胡華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳深愛半導(dǎo)體股份有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B05C11/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及一種勻膠清洗裝置，還涉及一種勻膠清洗方法。

【背景技術(shù)】

勻膠機(jī)在對(duì)硅片表面涂覆光刻膠時(shí)，膠偶爾會(huì)被甩到硅片背面邊緣處，使得硅片背面邊緣部分造成沾污，影響后續(xù)的硅片背面鍍銀膜層或其它工藝的質(zhì)量，造成掉銀或其它質(zhì)量隱患。

【發(fā)明內(nèi)容】

為了解決涂膠時(shí)硅片背面沾污的問題，有必要提供一種勻膠清洗裝置。

一種勻膠清洗裝置，包括清洗系統(tǒng)，所述清洗系統(tǒng)包括用于盛放清洗液的液罐、控制開關(guān)組件、噴頭以及將三者連接的水管，所述噴頭用于對(duì)準(zhǔn)硅片的背面、噴射清洗液對(duì)硅片背面進(jìn)行清洗。

優(yōu)選的，所述清洗系統(tǒng)還包括氣管，所述控制開關(guān)組件包括電磁閥、氣動(dòng)閥以及清洗液流量調(diào)節(jié)閥，所述電磁閥與氣動(dòng)閥通過氣管相連接，所述電磁閥和液罐通過氣管與輸氣口相連接；所述液罐與清洗液流量調(diào)節(jié)閥之間、清洗液流量調(diào)節(jié)閥與氣動(dòng)閥之間、氣動(dòng)閥與噴頭之間通過水管相連接，由所述電磁閥控制氣動(dòng)閥的打開與關(guān)閉。

優(yōu)選的，所述勻膠清洗裝置包括勻膠機(jī)，所述勻膠機(jī)包括驅(qū)動(dòng)器、由驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸，由轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)并用于吸附硅片的吸盤，以及用于容置硅片的勻膠腔體；所述轉(zhuǎn)軸伸入勻膠腔體的腔室內(nèi)，所述吸盤設(shè)于勻膠腔體的腔室內(nèi)。

優(yōu)選的，所述勻膠腔體包括：膠盤，開設(shè)有供轉(zhuǎn)軸伸入的轉(zhuǎn)軸口，用于排出廢液的廢液排出口以及供所述噴頭伸入的噴頭入口；膠盤蓋，蓋合于所述膠盤的頂部；廢液管，固定于所述廢液排出口的位置。

還有必要提供一種勻膠清洗方法。

一種勻膠清洗方法，包括下列步驟：將光刻膠滴到硅片表面；使硅片以第一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)第一時(shí)長；使硅片以第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)第二時(shí)長；使硅片以第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)第三時(shí)長，同時(shí)通過如權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的勻膠清洗裝置噴射清洗液對(duì)硅片背面進(jìn)行清洗；使硅片以第四轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)第四時(shí)長；其中，所述第一轉(zhuǎn)速＜第三轉(zhuǎn)速＜第二轉(zhuǎn)速，所述第一轉(zhuǎn)速＜第四轉(zhuǎn)速＜第二轉(zhuǎn)速。

優(yōu)選的，所述對(duì)硅片背面進(jìn)行清洗，是對(duì)硅片背面的邊緣進(jìn)行清洗。

優(yōu)選的，所述第一轉(zhuǎn)速為680～720轉(zhuǎn)/分鐘，所述第二轉(zhuǎn)速為3500～4000轉(zhuǎn)/分鐘，所述第三轉(zhuǎn)速為1970～2030轉(zhuǎn)/分鐘，所述第四轉(zhuǎn)速為1970～2030轉(zhuǎn)/分鐘；所述第一時(shí)長為6～8秒，所述第二時(shí)長為28～32秒，所述第三時(shí)長為5秒，所述第四時(shí)長為8～12秒。

優(yōu)選的，所述清洗液為二甲苯。

優(yōu)選的，所述勻膠清洗裝置是向輸氣口通入氮?dú)鈱?duì)液罐內(nèi)的清洗液進(jìn)行加壓及用于對(duì)氣動(dòng)閥進(jìn)行開關(guān)控制。

優(yōu)選的，所述將光刻膠滴到硅片表面的步驟中，所述硅片為靜止的狀態(tài)。

上述清洗系統(tǒng)通過噴射清洗液對(duì)硅片背面進(jìn)行清洗，可以將甩膠時(shí)被甩到硅片背面的光刻膠清洗掉，消除硅片背面的沾污，從而提高良品率。

【附圖說明】

圖1是一實(shí)施例中勻膠清洗裝置的示意圖；

圖2是另一實(shí)施例中勻膠清洗裝置的示意圖；

圖3是一實(shí)施例中勻膠腔體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是一實(shí)施例中勻膠清洗裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是一實(shí)施例中勻膠清洗方法的流程圖。

【具體實(shí)施方式】

為使本發(fā)明的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說明。

圖1是一實(shí)施例中勻膠清洗裝置的示意圖，包括清洗系統(tǒng)，清洗系統(tǒng)包括用于盛放清洗液的液罐110、控制開關(guān)組件120、噴頭130以及將三者連接的水管10。噴頭用于對(duì)準(zhǔn)硅片的背面、噴射清洗液對(duì)硅片背面進(jìn)行清洗。由于被甩到背面的光刻膠集中于硅片背面邊緣處，所以可以根據(jù)處理的硅片尺寸設(shè)置噴頭130的位置，使其對(duì)準(zhǔn)硅片背面的邊緣。

上述清洗系統(tǒng)通過噴射清洗液對(duì)硅片背面進(jìn)行清洗，可以將硅片背面的光刻膠清洗掉，消除硅片背面的沾污，從而提高良品率。

圖2是另一實(shí)施例中勻膠清洗裝置的示意圖。在該實(shí)施例中，清洗系統(tǒng)還包括氣管20，控制開關(guān)組件120包括電磁閥122、氣動(dòng)閥124以及清洗液流量調(diào)節(jié)閥126。電磁閥122與氣動(dòng)閥124通過氣管20相連接，電磁閥122和液罐110通過氣管20與輸氣口22相連接，由輸氣口22通入氣體對(duì)液罐110內(nèi)的清洗液進(jìn)行加壓，及對(duì)氣動(dòng)閥124進(jìn)行開關(guān)控制。液罐110與清洗液流量調(diào)節(jié)閥126之間、清洗液流量調(diào)節(jié)閥126與氣動(dòng)閥124之間、氣動(dòng)閥124與噴頭130之間通過水管10相連接，由電磁閥122控制氣動(dòng)閥124的打開與關(guān)閉。電磁閥122的控制可以采用簡單的控制電路實(shí)現(xiàn)。