[發(fā)明專利]一種模擬粉塵氣溶膠人體暴露的方法及其專用裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110378350.8
• 申請(qǐng)日: 2011-11-24
• 公開（公告）號(hào): CN102488555A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尚靜;朱彤;黃薇;欒勝基;于廣河
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京大學(xué);深港產(chǎn)學(xué)研基地
• 主分類號(hào): A61B19/00
• 分類號(hào): A61B19/00
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 關(guān)暢

1.一種模擬粉塵氣溶膠人體暴露的試驗(yàn)裝置，包括：一粉塵氣溶膠發(fā)生器、一靜電中和器和一暴露艙；所述粉塵氣溶膠發(fā)生器和靜電中和器置于所述暴露艙的外部，且所述粉塵氣溶膠發(fā)生器、所述靜電中和器和所述暴露艙依次通過接口管路相連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的試驗(yàn)裝置，其特征在于：所述試驗(yàn)裝置還包括：一套用于測(cè)定所述暴露艙內(nèi)顆粒物的質(zhì)量濃度和/或數(shù)濃度和/或粒徑分布的顆粒物檢測(cè)設(shè)備；所述顆粒物檢測(cè)設(shè)備置于所述暴露艙的外部，且與所述暴露艙通過接口管路相連接；

所述顆粒物檢測(cè)設(shè)備優(yōu)選包括粉塵濃度測(cè)定儀和/或快速動(dòng)能微粒尺寸分光計(jì)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的試驗(yàn)裝置，其特征在于：所述暴露艙內(nèi)還設(shè)有風(fēng)扇、和/或除塵凈化機(jī)、和/或溫度及濕度控制系統(tǒng)、和/或可視窗口；

其中，所述風(fēng)扇的個(gè)數(shù)優(yōu)選1-4個(gè)，所述除塵凈化機(jī)的個(gè)數(shù)優(yōu)選1-2個(gè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的試驗(yàn)裝置，其特征在于：所述暴露艙由惰性吸附材料構(gòu)成；

所述暴露艙的尺寸優(yōu)選為長(zhǎng)4m，寬3m，高2.5m，其中可同時(shí)容納2-4人。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的試驗(yàn)裝置，其特征在于：所述粉塵氣溶膠發(fā)生器為轉(zhuǎn)速可調(diào)的粉塵氣溶膠發(fā)生器；

所述粉塵氣溶膠發(fā)生器在發(fā)生粉塵氣溶膠的5-200min內(nèi)，獲得的粉塵氣溶膠的濃度標(biāo)準(zhǔn)偏差在5％以內(nèi)。

6.一種模擬粉塵氣溶膠人體暴露的方法，包括下述步驟：

1)將顆粒物置于權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述試驗(yàn)裝置中的粉塵氣溶膠發(fā)生器內(nèi)，開啟所述粉塵氣溶膠發(fā)生器，發(fā)生粉塵氣溶膠；

2)發(fā)生的粉塵氣溶膠通過權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述試驗(yàn)裝置中的靜電中和器中和多余的電荷，然后通過接口管路到達(dá)所述暴露艙；

3)待所述暴露艙內(nèi)的粉塵氣溶膠達(dá)到實(shí)驗(yàn)所需濃度后，將受試人群置于暴露艙內(nèi)，進(jìn)行人體粉塵氣溶膠的控制暴露實(shí)驗(yàn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于：所述顆粒物為非黏性干粉，優(yōu)選下述至少一種：金屬氧化物、碳酸鹽、硅酸鹽、鎂硅酸鹽和硅鋁酸鹽；尤其優(yōu)選下述任意一種物質(zhì)的顆粒物：Al₂O₃、SiO₂，F(xiàn)e₂O₃、TiO₂、MgO、CaO、CaCO₃、蒙脫石和高嶺石；所述顆粒物的平均粒徑為0.02-2.0μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法，其特征在于：在進(jìn)行粉塵氣溶膠人體暴露實(shí)驗(yàn)前，對(duì)所述暴露艙的內(nèi)壁進(jìn)行清潔以及抗靜電處理，以減少粉塵氣溶膠在壁上的吸附。

9.根據(jù)權(quán)利要求6-8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于：所述暴露艙內(nèi)發(fā)生的粉塵氣溶膠的濃度范圍為0.02-2mg/m³，粒徑范圍為0.05-5.0μm；

在暴露時(shí)間內(nèi)，所述暴露艙內(nèi)粉塵氣溶膠的濃度變化在20％以內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求6-9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于：步驟3)中所述暴露實(shí)驗(yàn)的暴露時(shí)間為1-6小時(shí)。