[發明專利]配向膜的形成方法有效
| 申請號: | 201110376308.2 | 申請日: | 2011-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN103135284A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發明(設計)人: | 歐耀仁;李漢郎;王建智;曾弘毅 | 申請(專利權)人: | 群康科技(深圳)有限公司;奇美電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 駱希聰 |
| 地址: | 518100 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 形成 方法 | ||
1.一種配向膜的形成方法,包括:
提供一光感材料,該光感材料定義一第一像素區及一第二像素區,該第一像素區與該第二像素區各定義一第一子像素區及一第二子像素區;
于一第一次曝光中,以一第一曝光方向光線及一第二曝光方向光線照射該光感材料,以于該第一像素區的該第一子像素區及該第二像素區的該第二子像素區分別形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部;
于一第二次曝光中,以該第一曝光方向光線及該第二曝光方向光線照射該光感材料,以于該第一像素區的該第二子像素區及該第二像素區的該第一子像素區形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。
2.如權利要求1所述的形成方法,還包括:
提供一第一掩模及一第二掩模,其中該第一掩模與該第二掩模各具有一第一曝光單元及一第二曝光單元;
于該第一次曝光的該步驟中,該第一曝光方向光線及該第二曝光方向光線分別照射該第一掩模的該第一曝光單元及該第二曝光單元;以及
于該第二次曝光的該步驟中,該第一曝光方向光線及該第二曝光方向光線分別照射該第二掩模的該第一曝光單元及該第二曝光單元。
3.如權利要求2所述的形成方法,還包括:
帶動該光感材料沿一移動方向移動,并經過該第一掩模及該第二掩模;
其中,該第一掩模的該第一曝光單元及該第二曝光單元是沿該移動方向間隔一距離,且該第二掩模的該第一曝光單元及該第二曝光單元是沿該移動方向間隔一距離。
4.如權利要求3所述的形成方法,其特征在于,該第一掩模的該第一曝光單元及該第二曝光單元是沿與該移動方向垂直的方向間隔一距離,且該第二掩模的該第一曝光單元及該第二曝光單元是沿與該移動方向垂直的方向間隔一距離。
5.如權利要求1所述的形成方法,其特征在于,該第一配向部與該第二配向部的配向位向相差180度。
6.如權利要求1所述的形成方法,其特征在于,該第三配向部與該第四配向部的配向位向相差180度。
7.一種配向膜的形成方法,包括:
提供一光感材料,該光感材料定義N×M個像素區,該N×M個像素區各定義N×M個子像素區;
于N×M曝光次數的每一次中,以M個不同曝光方向光線照射該光感材料,以于各N×M個像素區的其中一個該子像素區形成不同配向位向的多個配向部,其中,N是各M個曝光方向光線的偏振位向的個數。
8.如權利要求7所述的形成方法,還包括:
提供N×M個掩模,其中該N×M個掩模各具有M曝光單元;
于該N×M曝光次數的每一次中以該M個不同曝光方向光線照射該光感材料的該步驟中,該M個曝光方向光線分別照射該M個曝光單元組。
9.如權利要求8所述的形成方法,還包括:
帶動該光感材料沿一移動方向移動,以經過該N×M個掩模;
其中,該M個曝光單元組沿該移動方向是間隔一距離。
10.如權利要求9所述的形成方法,其特征在于,該M個曝光單元組沿與該移動方向垂直的方向間隔一距離。
11.如權利要求8所述的形成方法,其特征在于,該N×M個掩模其中一者的各M曝光單元具有N個子曝光單元,該N×M個子曝光單元對應該N×M個像素區。
12.如權利要求9所述的形成方法,其特征在于,第P個曝光方向光線照射第P個曝光單元的該N個子曝光單元,以形成N個不同配向位向的配向部,其中P為1至M之間的正整數。
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