[發(fā)明專利]一種單晶硅表面氯基硅烷-硫化釤薄膜的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110374896.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-11-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102394224A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃劍鋒;侯艷超;張燁;曹麗云;吳建鵬;殷立雄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 陜西科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L21/368 | 分類號(hào): | H01L21/368;C30B29/46;C30B7/14;C23C26/00;B05C3/09 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 陸萬(wàn)壽 |
| 地址: | 710021 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單晶硅 表面 硅烷 硫化 薄膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種硫化釤薄膜的制備方法,具體涉及一種單晶硅表面氯基硅烷-硫化釤薄膜的制備方法。
背景技術(shù)
SmS晶體為立方結(jié)構(gòu),是一種壓變色材料。在常溫常壓下是黑色的半導(dǎo)體(S-SmS),其晶格參數(shù)為0.597nm,在6.5×108Pa的靜壓力下,SmS晶體會(huì)經(jīng)歷從半導(dǎo)體相向金屬相(M-SmS)的相變。晶格常數(shù)從0.597nm減少到0.570nm左右;而且,晶體顏色將從黑色變?yōu)榻瘘S色,體積收縮大約在16%左右[Jayaraman?A,Narayanamurti?V,Bucher?Eetal.Continuous?and?Discontinuous?Semiconductor-metal?Tran-sition?in?Samarium?Monochalcogenides?Under?Pressure[J].Phy?Rev?Lett.1970,25(20):1430.]。SmS的薄膜透過(guò)為綠色,反射則為藍(lán)色或者是偏藍(lán)的黑色,發(fā)生相轉(zhuǎn)變后,它會(huì)變成藍(lán)色的透過(guò)色和金黃色的反射色[Hickey?C?F,Gibson?U?J.Optical?Response?of?Switching?SmS?in?Thin?Films?Prepared?by?Reactive?Evaporation[J].J?Appl?Phys.1987,62(9):3912~3916]。因此,具有壓變色性質(zhì)的SmS可以用于全息記錄和貯存器、光學(xué)開關(guān)和光學(xué)數(shù)字貯存器等。到目前為止,制備硫化釤薄膜的方法有反應(yīng)性蒸鍍[Petrov?M?P.Holographics?Storage?in?SmS?Thin?Films[J].Optics?Communications.1977,22(3):293~296]、真空沉積、電子束蒸鍍、雙靶濺射等[黃劍鋒,馬小波等.SmS光學(xué)薄膜研究新進(jìn)展[J].材料導(dǎo)報(bào).2006,20(9):9~12]。這些制備工藝已經(jīng)比較成熟,但是需要的設(shè)備比較特殊,昂貴;制備工藝復(fù)雜,條件苛刻等因素,使得制備硫化釤薄膜的成本太高,不能簡(jiǎn)單快速的制備性能良好的薄膜。自組裝(Self-assembled?monolayers)技術(shù)(簡(jiǎn)稱SAMs技術(shù)),是一種制備薄膜的新技術(shù),通過(guò)表面活性劑與基底之間的化學(xué)吸附作用,在基板材料上自組形成排列整齊,致密,有序的單分子膜層。以自組裝膜為模板誘導(dǎo)無(wú)機(jī)前軀體溶液在基底表面沉積成膜的仿生合成制膜技術(shù),具有傳統(tǒng)物理化學(xué)方法無(wú)可比擬的優(yōu)點(diǎn),是一種極具應(yīng)用前景的新型、高效的綠色制膜技術(shù)[談國(guó)強(qiáng),劉劍,賀中亮。自組裝單層膜技術(shù)及其在制備功能薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用[J].陶瓷.2009,7:9~13]。這種制膜方法操作簡(jiǎn)便,成本低,不需特殊設(shè)備,且制備出的薄膜均勻、致密、低缺陷,強(qiáng)度高,結(jié)合力好,不需后期晶化處理。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種工藝簡(jiǎn)單,成本低廉,制備出的薄膜均勻,致密,低缺陷,強(qiáng)度高,結(jié)合力好,不需后期晶化處理,性能良好的單晶硅表面氯基硅烷-硫化釤納米薄膜的制備方法。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的具體方法如下:
1)取0.2-4.0g分析純的六水合氯化釤(SmCl3·6H2O)和0.2-4.0g分析純的氯化銨(NH4Cl)置于研缽中混合均勻后移至氧化鋁瓷舟中,再將氧化鋁瓷舟放置到高溫真空管式爐的中,通入氬氣進(jìn)行保護(hù),在100-150℃保溫20-120min,然后繼續(xù)升溫到200-300℃,保溫20-120min除掉所有水分,繼續(xù)升溫到300-400℃,保溫30-120min,除掉NH4Cl,然后降到室溫,得到粉末A;
2)取0.2-2.0g的金屬釤粉末與粉末A混合均勻后置于氧化鋁瓷舟中,再將其放置到高溫真空式管式爐中,并通入氬氣進(jìn)行保護(hù),在800~1000℃,保溫30~120min,然后降到室溫,得到粉末B;
3)取0.2-2.0g的粉末B置于燒杯中,向燒杯中滴加10-80mL的無(wú)水乙醇后再加入1mL~5ml去離子水?dāng)嚢杈鶆虻萌芤篊;
4)向溶液C中加入0.1-3.0g的EDTA(乙二胺四乙酸),常溫下磁力攪拌均勻得溶液D;
5)向溶液D中加入0.01-3.00g分析純的硫代乙酰胺(C2H5NS)攪拌均勻得溶液E;
6)用氨水調(diào)節(jié)溶液E的pH值至5.0-8.0得前驅(qū)液F;
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