[發(fā)明專利]檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)及方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110373349.6
• 申請日: 2011-11-22
• 公開（公告）號: CN103134822A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設計）人: 吳金來;鄭加傳;彭朋畿;姬俊宇
• 申請（專利權）人: 全友電腦股份有限公司
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01B15/00
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司 11127
• 代理人: 任默聞

1.一種檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)包含：

一第一放射源，其設置于一待測物的一第一表面?zhèn)龋靡蕴峁┮坏谝环派渚€；

一第二放射源，其設置于所述待測物的所述第一表面?zhèn)龋靡蕴峁┮坏诙派渚€，其中所述第一放射源以及所述第二放射源設置于所述待測物的所述第一表面?zhèn)鹊奈恢孟喈悾?/p>

一顯像元件，其設置于所述待測物的一第二表面?zhèn)鹊囊黄矫妫龅谝槐砻嬉约八龅诙砻姹舜讼鄬Γ鲲@像元件用以分別接收透射過所述待測物的所述第一放射線以及所述第二放射線，以顯現(xiàn)所述待測物中的一缺陷于所述顯像元件上的一第一缺陷位置以及一第二缺陷位置；以及

一計算單元，其以所述第一放射源的位置、所述第一放射源垂直投影至所述平面的一第一投影位置、所述第二放射源的位置、所述第二放射源垂直投影至所述平面的一第二投影位置、所述缺陷的位置、所述缺陷垂直投影至所述平面的一缺陷投影位置、所述第一缺陷位置以及所述第二缺陷位置所形成的多個三角形，利用相似三角形關系計算出所述待測物中的所述缺陷至所述平面間的一距離。

2.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述缺陷至所述平面間的所述距離是利用以下公式計算而得：

D_Def＝D1_Ray(L1_D/L1_R)

其中，D_Def為所述缺陷至所述平面間的所述距離，D1_Ray為所述第一放射源至所述平面的投影距離，L1_D為所述第一缺陷位置至所述缺陷投影位置的距離，L1_R為所述第一缺陷位置至所述第一投影位置的距離。

3.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述缺陷至所述平面間的所述距離是利用以下公式計算而得：

D_Def＝D2_Ray(L2_D/L2_R)

其中，D_Def為所述缺陷至所述平面間的所述距離，D2_Ray為所述第二放射源至所述平面的投影距離，L2_D為所述第二缺陷位置至所述缺陷投影位置的距離，L2_R為所述第二缺陷位置至所述第二投影位置的距離。

4.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一放射源至所述平面的投影距離等于所述第二放射源至所述平面的投影距離。

5.如權利要求4所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述缺陷至所述平面間的所述距離是利用以下公式計算而得：

D_Def＝D_Ray×L_DD/(L_DD+L_RR)

其中，D_Def為所述缺陷至所述平面間的所述距離，D_Ray為所述第一放射源或所述第二放射源至所述平面的投影距離，L_DD為所述第一缺陷位置至所述第二缺陷位置的距離，L_RR為所述第一投影位置至所述第二投影位置的距離。

6.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述計算單元更以所述待測物的所述第一表面至所述平面的距離減去所述缺陷至所述平面的距離以得到所述缺陷至所述第一表面的距離。

7.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一放射源以及所述第二放射源至少其中之一包含伽瑪射線、X射線或游離輻射。

8.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述顯像元件貼近所述待測物的所述第二表面。

9.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述顯像元件包含一底片。

10.如權利要求1所述的檢測待測物的缺陷深度的系統(tǒng)，其特征在于，所述顯像元件包含一感測器，用以檢測透射過所述待測物的所述第一放射線以及所述第二放射線并輸出相對應的一檢測信號。