[發(fā)明專利]制備熱障涂層結(jié)構(gòu)的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110372539.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102534457A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K·馮尼森;M·金德拉特;R·C·施密德 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇舍美特科公司 |
| 主分類號(hào): | C23C4/12 | 分類號(hào): | C23C4/12;C23C4/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黃念;林毅斌 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 熱障 涂層 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種在基材表面制備熱障涂層結(jié)構(gòu)(10)的方法,其中
-提供具有等離子體炬(4)的工作腔室(2);
-等離子體射流(5)這樣產(chǎn)生:等離子體氣體被引導(dǎo)穿過(guò)等離子體炬(4)并在那里通過(guò)電氣體放電和/或電磁感應(yīng)和/或微波進(jìn)行加熱;和
-使等離子體射流(5)導(dǎo)向至該被引入工作腔室中的基材(3)的表面,
其特征在于:
-在等離子體炬(4)和基材(3)之間施加電壓,以在等離子體炬(4)和基材(3)之間產(chǎn)生電弧并且通過(guò)該電弧清潔該基材表面;
-在電弧清潔后,基材(3)保持在工作腔室中并且在以這種方式清潔的基材表面上產(chǎn)生具有0.02μm至5μm,特別地0.02μm至2μm厚度的氧化物層(11),和
-在附加的步驟中,通過(guò)等離子體噴涂方法施加至少一個(gè)熱障涂層(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中基材表面由粘結(jié)促進(jìn)層和/或熱氣體腐蝕保護(hù)層,特別地由MCrAlY類型的合金層或金屬鋁化物層形成,其中M=Fe、Co、Ni或NiCo。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其中在制備熱障涂層結(jié)構(gòu)期間,基材(3)保持在工作腔室(2)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)的方法,其中在制備熱障涂層結(jié)構(gòu)期間,監(jiān)測(cè)和/或控制該工作腔室中氣氛的組成和/或壓力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)的方法,其中在電弧清潔該基材表面期間,工作腔室(2)中的壓力總計(jì)小于1kPa。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)的方法,其中在產(chǎn)生氧化物層(11)期間,工作腔室(2)包含氧或含氧氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)的方法,其中熱產(chǎn)生該氧化物層(11),特別地通過(guò)等離子體射流加熱該基材表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)的方法,其中氧化物層(11)通過(guò)PS-PVD或PS-CVD產(chǎn)生,同時(shí)工作腔室中的壓力低于1kPa;其中特別地,至少一種活性組分以液態(tài)或氣態(tài)形式注入等離子體射流(5)中。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其中產(chǎn)生的氧化物層(11)具有小于3%,特別地小于1%的孔隙度;和/或其中產(chǎn)生的氧化物層(11)的大于90%或大于95%由熱穩(wěn)定氧化物形成,特別地大于90%或大于95%由α-Al2O3形成。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其中至少一個(gè)熱障涂層由陶瓷材料制備。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的方法,其中熱障涂層的陶瓷材料由穩(wěn)定的氧化鋯,特別地用釔、鈰、鈧、鏑或釓穩(wěn)定的氧化鋯組成,和/或包含穩(wěn)定的氧化鋯,特別地用釔、鈰、鈧、鏑或釓穩(wěn)定的氧化鋯作為組分。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11的方法,其中至少一個(gè)熱障涂層通過(guò)在高于50kPa的工作腔室壓力下的熱等離子體噴涂和/或通過(guò)在5kPa至50kPa的工作腔室壓力下的低壓等離子體噴涂進(jìn)行施加。
13.根據(jù)權(quán)利要求10或11的方法,其中至少一個(gè)熱障涂層在小于5kPa或小于1kPa的工作腔室壓力下通過(guò)等離子體噴涂物理蒸氣沉積(PS-PVD)進(jìn)行施加。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法,其中陶瓷材料至少部分地在等離子體射流中蒸發(fā),以產(chǎn)生具有柱狀結(jié)構(gòu)的熱障涂層(12)。
15.使用根據(jù)上述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法制備的基材。
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C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
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C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
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