[發明專利]酞菁鋅配合物作為墨水在微接觸印刷中的應用

無效

• 申請號: 201110371869.3
• 申請日: 2011-11-21
• 公開（公告）號: CN102516841A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 蘇煒;李培源;楊芳
• 申請（專利權）人: 廣西師范學院
• 主分類號: C09D11/02
• 分類號: C09D11/02;B41M1/12
• 代理公司: 廣西南寧公平專利事務所有限責任公司 45104
• 代理人: 王素娥

1.酞菁鋅配合物作為墨水在微接觸印刷中的應用，其特征在于，將八(辛烷氧基)-酞菁鋅的2-丙醇溶液作為微接觸印刷的墨水，將PDMS印章的圖案轉移至羧基化的聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯或聚酰亞胺基底表面，再通過化學鍍的方法在基底上得到精美的金屬圖案，酞菁鋅配合物為八(辛烷氧基)-酞菁鋅，其結構式如下：

具體步驟如下：

1)基底羧基化

基底為聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯或聚酰亞胺，將基底材料用＞1mol/L氫氧化鈉溶液在70℃條件下浸泡30min，再用＞1mol/L醋酸在70℃條件下浸泡15min，隨后用水清洗，60℃真空干燥，得到羧基化基底；

2)制備八(辛烷氧基)-酞菁鋅墨水

將八(辛烷氧基)-酞菁鋅用2-丙醇溶解，得到濃度為0.1～1g/L的八(辛烷氧基)-酞菁鋅墨水；

3)微接觸印刷

流中干燥30s，將涂有八(辛烷氧基)-酞菁鋅墨水的PDMS印章蓋于羧基化基底上，輕壓5s，通過羧基和金屬的鍵合作用，將PDMS印章圖案轉移至基底表面，得到印有圖案的基底；

4)化學鍍

將印有圖案的基底浸泡于0.1g/L?PdCl₂溶液中10s，取出后放于由2wt％硫酸銅、11wt％酒石酸鈉鉀、3wt％氫氧化鈉、45wt％甲醛和49wt％蒸餾水化學鍍銅液中進行化學鍍，時間為3-5min。取出后即可在基底上得到精美的金屬銅圖案。