[發(fā)明專利]一種改善非晶軟磁合金薄帶貼輥面質(zhì)量的裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110369608.8 | 申請(qǐng)日: | 2011-11-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102407300A | 公開(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭莉;趙峰;尹娜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 滕州高科康納合金材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | B22D11/06 | 分類號(hào): | B22D11/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 277500 山東省棗莊市滕州市界河鎮(zhèn)魯*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改善 非晶軟磁 合金 薄帶貼輥面 質(zhì)量 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及非晶納米晶軟磁合金的制帶設(shè)備,特別涉及一種改善非晶軟磁合金薄帶貼輥面質(zhì)量的裝置。
背景技術(shù)
1979年美國(guó)Allied-Signal公司開發(fā)出非晶合金帶的快淬技術(shù)使非晶合金帶材量產(chǎn)成為可能以來,1989年該公司已具備年產(chǎn)6萬噸非晶薄帶的能力,該合金成分為FeSiB系,F(xiàn)eSiB系非晶合金目前國(guó)內(nèi)年產(chǎn)量的約4萬噸,需求量達(dá)10萬噸以上。
1988年日本吉澤克仁發(fā)明了FeCuNbSiB系高導(dǎo)磁納米晶合金,目前國(guó)內(nèi)年產(chǎn)量達(dá)4000噸以上
由于非晶合金薄帶,厚度小于30um所以制成的鐵芯損耗低,而FeSiB系飽和磁感高,制作變壓器有小型化,高效率,低噪聲的特點(diǎn),F(xiàn)eCuNiSiB系導(dǎo)磁率高,成本比坡莫合金低很多,所以這些合金大量用于變壓器扼流圈、可飽和電抗器、互感器等磁性部件,也用電源變換器、漏電斷路器、計(jì)算機(jī)、通信儀器等。
目前產(chǎn)業(yè)化非晶納米晶合金帶的制造過程如圖1所示,圖1中,11為非真空感應(yīng)爐的坩堝,工藝是把用真空感應(yīng)爐冶煉的母合金,加入到非真空爐的坩堝內(nèi)熔煉當(dāng)母合金熔化時(shí)當(dāng)達(dá)到溫度后,把鋼液注入到噴咀包12內(nèi),13為噴咀包加熱電阻絲、14為鋼液、15為噴咀,鋼液通過噴咀在鋼液柱的壓力下注到冷卻輥16上,輥縫17即噴咀和輥面的距離,18為非晶帶、19為非晶帶的貼輥面。
噴咀一般用BN制成,一般為長(zhǎng)方體,噴咀開的咀寬約0.7毫米咀縫長(zhǎng)度等于噴帶的寬度、咀縫在出帶的方向稱之為前唇,相反稱之為后唇。
冷卻輥的輥面材質(zhì)為鉻鋯銅,轉(zhuǎn)動(dòng)的線速度為24至27M/S,噴咀與輥面距離一般0.1至0.2毫米,稱之為輥縫,由于冷卻輥的高速旋轉(zhuǎn),非晶帶與輥面接觸側(cè)要卷入空氣而在帶的表面形成氣囊如圖2,研究表明,由于這些氣囊的存在,使非晶帶的橫向上形成弧度,而氣囊部位非晶化率低,磁性差,所以制成鐵芯時(shí),占空系數(shù)低,磁性也偏低,所以諸多研究者為改善非晶帶貼輥面的氣囊進(jìn)行了種種研究。
1988年美國(guó)人新澤西發(fā)表專利4791979及專利4869312該專利提出的解決辦法是,噴咀的后唇(上游)與冷卻輥的間隙為0.051毫米,而前唇(下游)與冷卻輥的間隙為0.1毫米,也就是說噴咀的后唇比前后更靠近冷卻輥以減少空氣的卷入,同時(shí)在噴咀的上游噴射惰性氣體和還原氣體CO,利用CO的燃燒減少氣體的密度。
2000年日本吉澤克仁申請(qǐng)專利公開號(hào)CN1781624A專利提出目標(biāo)是非晶薄帶與輥接觸面的空氣囊寬度小于35um,氣囊長(zhǎng)度小于150um,輥接觸面中心線平均粗糙度Ra為0.5um以下,專利提出減少空氣囊的辦法是合金的溶液噴出的壓力大于270gf/C?m2;噴帶的線速度大于22M/S,冷卻輥的表面溫度在100℃以上,250℃以下。
國(guó)內(nèi)外現(xiàn)狀,目前國(guó)內(nèi)主要廠家生產(chǎn)的FeCuNbSi系和FeNiMoB系非晶合金的貼輥面表面狀態(tài),如圖2、3、4、5及圖6
圖2是科瑞米特FeCuNbSiB帶的貼輥面的金相照片,放大倍數(shù)見圖中的比例尺,粗糙Ra=0.64um
圖3是世路生產(chǎn)的2826MB(FeNiMoB系)非晶帶的貼輥面的金相照片,其粗糙度Ra=0.49um
圖4是安泰FeCuNbSiB非晶帶貼輥面金相照片其粗糙度Ra=0.52um
圖5是錦州FeCuNbSiB非晶帶貼輥面金相照片其粗糙度Ra=1.10um
圖6是日本東芝2826MB非晶帶貼輥面金相照片其粗糙度Ra=0.19um
以上實(shí)物測(cè)試表明近年來日本東芝非晶帶的表面質(zhì)量要比2000年吉澤克仁CN1781624A專利提出的指標(biāo)進(jìn)步的多,而國(guó)內(nèi)廠家生產(chǎn)的非晶帶的表面質(zhì)量還有很大的差距。
發(fā)明內(nèi)容:
本發(fā)明針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種改善非晶軟磁合金薄帶貼輥面質(zhì)量的裝置。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種改善非晶軟磁合金薄帶貼輥面質(zhì)量的裝置,包括噴咀包71、噴咀保溫電熱絲72、噴咀73、耐高溫材料74、冷卻輥75、第一輥面拋光裝置76、第二輥面拋光裝置77,其特征在于:在噴咀73的出帶相反方向側(cè)壓入耐高溫材料74,第一輥面拋光裝置76設(shè)置在冷卻輥75的出帶方向,第二輥面拋光裝置77設(shè)置在冷卻輥75的出帶相反方向。
所述耐高溫材料74為耐高溫1300℃的硅酸鋁纖維氈。
所述第一輥面拋光裝置76包括360至500#耐水砂紙和硅酸鋁纖維氈。
所述第二輥面拋光裝置77包括1000#至1500#耐水砂紙和硅酸鋁纖維氈。
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